[發明專利]一種多弧離子鍍及鍍膜方法

有效

• 申請號: 201610263110.6
• 申請日: 2016-04-26
• 公開（公告）號: CN105779947B
• 公開（公告）日: 2017-12-29
• 發明（設計）人: 陳剛;周敏;樊慶根;陳亮
• 申請（專利權）人: 成都極星等離子科技有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/50
• 代理公司: 成都金英專利代理事務所(普通合伙)51218
• 代理人: 袁英,郭肖凌

1.一種多弧離子鍍的裝置，其特征在于：它包括爐體（31）、安裝在爐體（31）上的封閉門、轉架（32）、電?。?3）以及設置于爐體（31）外部的抽真空裝置（34）和負電源A（35），爐體（31）的內壁上設置有多個電?。?3），電弧（33）由磁鐵（37）、負電源B（38）和塊靶材（39）組成，負電源B（38）與磁鐵（37）連接，負電源B（38）設置于爐體（31）的外部，磁鐵（37）的端面上設置有塊靶材（39），抽真空裝置（34）的工作端與爐體（31）的內部連通，爐體（31）的頂部設置有進氣管（40），爐體（31）內設置有兩個隔熱裝置，兩個隔熱裝置均由螺紋桿（41）和隔熱鋼板（42）組成，螺紋桿（41）設置于爐體（31）的內壁上，螺紋桿（41）上設置有多個隔熱鋼板（42），所述的爐體（31）內還設置有升溫裝置（43）和溫度傳感器，該多弧離子鍍還包括PLC控制器，所述的PLC控制器與抽真空裝置（34）、負電源A（35）、負電源B（38）、升溫裝置（43）和溫度傳感器連接；

所述的轉架（32）設置于爐體（31）內且位于兩個隔熱裝置之間，轉架（32）與負電源A（35）連接，轉架（32）由工作臺（1）、中心齒輪（2）、下圓盤（11）、矩形柱（12）、上圓盤（13）、行星齒輪（3）、安裝于工作臺（1）上的軸承座（4）、用于安裝帶孔刀具的夾具（5）以及旋轉安裝于軸承座（4）上的轉盤（6）組成，工作臺（1）設置于爐體（31）的底表面，工作臺（1）上設置有至少三個限位柱（7），中心齒輪（2）的下表面設置有至少三個套筒（8），中心齒輪（2）的中部設置有中心孔（9），中心齒輪（2）設置于轉盤（6）的上方，套筒（8）套裝于限位柱（7）上，轉盤（6）上設置有至少四個支撐座（10），支撐座（10）貫穿中心孔（9）設置且支撐座（10）的頂部連接有下圓盤（11），下圓盤（11）的下表面且以中心孔（9）為圓心轉軸旋轉安裝有多個行星齒輪（3），每個行星齒輪（3）均與中心齒輪（2）嚙合，下圓盤（11）的上表面且以中心孔（9）為圓心設置有多個矩形柱（12），矩形柱（12）與行星齒輪（3）的轉軸連接，矩形柱（12）所圍成的區域內設置有上圓盤（13），每個矩形柱（12）上設置有多個夾具（5）；

所述的夾具（5）包括中心柱（14）、立柱（15）以及設置于中心柱（14）上下端部的安裝板A（16）和安裝板B（17），中心柱（14）內設置有方形孔（18），安裝板A（16）和安裝板B（17）均呈圓形狀，安裝板A（16）上且沿安裝板A（16）的邊緣上均勻分布有多個卡槽（19），安裝板B（17）上且沿安裝板B（17）的圓周方向均勻分布有多個安裝孔（20），所述的卡槽（19）與安裝孔（20）之間設置有立柱（15），立柱（15）的上端部設置有外螺紋，外螺紋上連接有螺母（21），螺母（21）的下表面抵壓于安裝板A（16）的上表面，立柱（15）的下端部插裝于安裝孔（20）內，立柱（15）上還設置有撥輪（22），撥輪（22）的圓周方向設置有多個撥齒（23），立柱（15）上且從撥輪（22）到安裝板A（16）之間順次貫穿有多個待鍍膜的帶孔刀具（24），且每相鄰兩個帶孔刀具（24）之間均設置有隔套（25），所述的夾具（5）經方形孔（18）與矩形柱（12）配合安裝于矩形柱（12）上；

所述的下圓盤（11）的上表面還設置有多個立桿（26），每個矩形柱（12）的旁側均設置有立桿（26），立桿（26）上設置有多個彈性撥板（27），彈性撥板（27）與撥齒（23）接觸；所述的轉盤（6）的邊緣上設置有限位槽（28），所述的工作臺（1）上還設置有滑塊（29），滑塊（29）上設置有限位塊（30），限位塊（30）設置于限位槽（28）內；

該多弧離子鍍還包括設置于爐體（31）外部的傳動裝置和電機（44），電機（44）的輸出端與傳動裝置的輸入端連接，傳動裝置的輸出端與轉盤（6）連接。

2.根據權利要求1所述的一種多弧離子鍍的裝置，其特征在于：所述的工作臺（1）上設置有三個限位柱（7），三個限位柱（7）呈三角形設置。

3.根據權利要求1所述的一種多弧離子鍍的裝置，其特征在于：所述的轉盤（6）上設置有四個支撐座（10）。

4.根據權利要求1所述的一種多弧離子鍍的裝置，其特征在于：所述的每個矩形柱（12）上均設置有三個夾具（5）。

5.根據權利要求1所述的一種多弧離子鍍的裝置，其特征在于：所述的卡槽（19）呈U形狀。