[發明專利]離子光學裝置

有效

• 申請號: 201610260015.0
• 申請日: 2016-04-25
• 公開（公告）號: CN107305833B
• 公開（公告）日: 2019-05-28
• 發明（設計）人: 蔣公羽;孫文劍;程玉鵬;張小強
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: H01J49/06
• 分類號: H01J49/06
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 高彥

1.一種離子光學裝置，其特征在于，包括：

一或多對約束電極單元，在一空間內的第一方向的兩側相對設置且隨所述第一方向延伸；成對的約束電極單元之間具有一個大于0度且小于50度的張角，用以在所述第一方向引入直流滲入場并向所述第一方向下游壓縮并傳輸離子；

離子引入口，位于所述第一方向上游，用以沿所述第一方向引入離子；

電源裝置，用于在成對的約束電極單元分別施加相反的射頻電壓且在約束電極單元上形成按基本正交于所述第一方向的一個第二方向分布的多個直流電位，以在所述第一方向的至少一部分長度上形成在所述第二方向上的勢壘；

至少一個第一區域及第二區域，位于所述空間中且在第二方向上分別位于所述勢壘兩側；

控制裝置，連接所述電源裝置，用于控制所述電源裝置的輸出以變化所述勢壘，以操縱在所述第一區域中傳輸或儲存的離子按其質荷比或遷移率的不同而以不同方式通過所述勢壘轉移到所述第二區域并沿第一方向繼續傳輸。

2.根據權利要求1所述的離子光學裝置，其特征在于，所述控制裝置用于操縱所述電源裝置的輸出幅度，或頻率來調整所述勢壘的位置、高度或梯度方向。

3.根據權利要求1所述的離子光學裝置，其特征在于，所述第二區域中的離子供沿所述第一方向逐出所述離子光學裝置。

4.根據權利要求3所述的離子光學裝置，其特征在于，包括：引出電極單元，設于所述第二區域下游，并連接所述離子光學裝置的出口，用于將所述第二區域中的離子逐出所述所述離子光學裝置。

5.根據權利要求4所述的離子光學裝置，其特征在于，所述引出電極單元施加有用于實現所述逐出離子動作的周期性脈沖電壓。

6.根據權利要求3所述的離子光學裝置，其特征在于，所述離子光學裝置后級設有質量分析器，所述控制裝置連接所述質量分析器；所述控制裝置用于控制所述電源裝置及質量分析器，使所述轉移至第二區域以供逐出的離子的質荷比或遷移率同該控制裝置為所述質量分析器所設置的需分析的離子質量相匹配。

7.根據權利要求1所述的離子光學裝置，其特征在于，每個約束電極單元包括沿一第二方向設置的多個電極，相鄰的電極施加有相反相位的射頻電壓且分別施加有直流電壓；并且成對的兩個約束電極單元的電極間一一成對，成對的兩個電極分別施加有相反相位的射頻電壓。

8.根據權利要求7所述的離子光學裝置，其特征在于，每個約束電極單元中的各所述電極平行間隔設置。

9.根據權利要求7所述的離子光學裝置，其特征在于，每個所述約束電極單元包括3個以上的電極。

10.根據權利要求1所述的離子光學裝置，其特征在于，所述空間中具有碰撞氣體。

11.根據權利要求10所述的離子光學裝置，其特征在于，所述碰撞氣體的氣壓范圍為0.1～10Pa。

12.根據權利要求1所述的離子光學裝置，其特征在于，成對的約束電極單元之間具有一個大于0度且小于或等于20度的張角。

13.根據權利要求1所述的離子光學裝置，其特征在于，成對的約束電極單元間在所述第一方向的兩端開口距離比例為1至2.8。

14.根據權利要求1所述的離子光學裝置，其特征在于，成對的約束電極單元間在所述第一方向的兩端開口距離比例為1.9至2.4。