[發(fā)明專利]一種新型足浴盆

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610256989.1
• 申請日: 2016-04-22
• 公開（公告）號: CN105768998A
• 公開（公告）日: 2016-07-20
• 發(fā)明（設計）人: 劉洋
• 申請（專利權）人: 天津至優(yōu)科技有限公司
• 主分類號: A47K3/022
• 分類號: A47K3/022;A61N5/06;A61H39/06;A61H15/00;A61H35/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發(fā)明專利涉及一種新型足浴盆，屬于醫(yī)療保健器械技術領域。

背景技術

足浴盆已涉及日常生活，足浴常生活，大有普及到千家萬戶的趨勢。每天堅持“熱 水足浴”，舒筋通絡，和氣活血，調節(jié)和平衡人體分泌，舒展緊張神經，活躍末梢神經， 延緩人體衰老，更有效預防人體各種血管疾病。人體各臟器官在手足部均有其相對應的 反射區(qū)，反射區(qū)是神經的聚焦點，每一點都和身體某器官有關連，運用機械物理方法 刺激這些反射區(qū)，使得發(fā)射區(qū)和身體相關器官的血液循環(huán)提以改善，身體的每一個器官 都依賴血液循環(huán)維持正常的功能。血液帶來的營養(yǎng)、氧氣、荷爾蒙、抗生素以及其它物 質，通過循環(huán)帶走廢物及排出有毒物質。身體某器官受到傷害或感到不適時，通過反射 區(qū)加適當刺激可加快人體血液的良性循環(huán)，可以調節(jié)人體各部位的機能，取得防病各調 理自我保健的效果。刺激這些反射區(qū)使用的是純粹的物理反射方法，主要是用機械物 理方法，針對相應的反射區(qū)施加輕、重不同壓力的方法，結果是引起人體的某種生理變 化，亦即使某種失衡的不正常狀態(tài)，得以恢復正常的協(xié)調狀態(tài)，從而起到調理亞健康等 不適癥狀，起到養(yǎng)生保健預防疾病的作用。

現(xiàn)有的足浴盆大都只具有足底按摩和泡腳的作用，功能較為單一。

發(fā)明專利內容

本發(fā)明專利要解決的技術問題，在于提供一種新型足浴盆，該足浴盆功能多樣，可 有效起到保健的作用。

本發(fā)明專利通過下述方案實現(xiàn)：一種新型足浴盆，其包括殼體，所述殼體內部分為 泡腳按摩區(qū)和恒溫熱灸區(qū)，所述恒溫熱灸區(qū)設置在所述泡腳按摩區(qū)的上端，并通過漏水 踏板隔開，所述恒溫熱灸區(qū)設有紅外恒溫熱灸裝置，所述泡腳按摩區(qū)設有兩個按摩區(qū)， 兩個所述按摩區(qū)之間設有立板，所述按摩區(qū)的后側設有導熱板，所述導熱板后面設有電 熱板，所述導熱板與所述按摩區(qū)之間設有擋板，所述立板上設有控制器和無線信號接收 裝置，所述立板的后側設有漏水孔，所述漏水孔通過管路連接到設置在所述立板前側的 循環(huán)裝置，所述循環(huán)裝置通過循環(huán)主管連接到設置在所述殼體左右兩邊的循環(huán)橫管，所 述循環(huán)橫管上設有噴頭，所述噴頭對準所述按摩區(qū)，所述控制器與所述紅外恒溫熱灸裝 置、所述電熱板、所述循環(huán)裝置均通過電連接。

所述按摩區(qū)上設有按摩柱，所述按摩柱內設有磁石。

所述控制器上端設有控制面板。

所述恒溫熱灸區(qū)上端設有上蓋，所述上蓋設置在所述立板的前側。

所述擋板設有兩塊，分別設置在兩個所述按摩區(qū)的后側。

本發(fā)明專利的有益效果為：

1、本發(fā)明專利一種新型足浴盆的功能多樣，具有泡腳、足底按摩及紅外恒溫熱灸 等功能；

2、本發(fā)明專利一種新型足浴盆設有循環(huán)裝置，可將足浴盆內的水不管循環(huán)，增強 水的流動性，以提高足浴效果；

3、本發(fā)明專利一種新型足浴盆設有無線信號接收裝置，可通過無線設備接入到足 浴盆的控制器，以遠程控制足浴盆的運行；

4、本發(fā)明專利一種新型足浴盆設有擋板，避免腳碰到導熱板，以防止腳被燙傷。

附圖說明

圖1為本發(fā)明專利一種新型足浴盆的俯視剖面結構示意圖。

圖2為本發(fā)明專利一種新型足浴盆的正視剖面結構示意圖。

圖3為本發(fā)明專利一種新型足浴盆的俯視結構示意圖。

圖4為本發(fā)明專利一種新型足浴盆的按摩柱結構示意圖。

圖中：1為殼體，2為泡腳按摩區(qū)，3為恒溫熱灸區(qū)，4為漏水踏板，5為紅外恒溫 熱灸裝置，6為按摩區(qū)，7為立板，8為導熱板，9為電熱板，10為擋板，11為控制器， 12為無線信號接收裝置，13為漏水孔，14為循環(huán)裝置，15為循環(huán)主管，16為循環(huán)橫 管，17為噴頭，18為按摩柱，19為磁石，20為控制面板，21為上蓋。

具體實施方式

下面結合圖1-4對本發(fā)明專利進一步說明，但本發(fā)明專利保護范圍不局限所述內容。

其中相同的零部件用相同的附圖標記表示。需要說明的是，下面描述中使用的詞語 “前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附圖中的方向，詞語“內”和“外” 分別指的是朝向或遠離特定部件幾何中心的方向。