[發明專利]一種檢驗光刻對準精度的方法在審
| 申請號： | 201610251748.8 | 申請日： | 2016-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN107305321A | 公開（公告）日： | 2017-10-31 |
| 發明（設計）人： | 馮奎;張宏偉;陸道亮;高志攀;李佳園 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G03F9/00 | 分類號： | G03F9/00;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京市磐華律師事務所11336 | 代理人： | 董巍,高偉 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 檢驗 光刻 對準 精度 方法 | ||
1.一種檢驗光刻對準精度的方法，包括：
對器件中的下層圖形光刻時，僅將第一對準標記的位于X方向的圖形曝光出來；
對所述器件中的下層圖形中的子圖形光刻時，僅將第二對準標記的位于與所述X方向垂直的Y方向的圖形曝光出來；
對所述器件中的上層圖形光刻時，將第三對準標記的位于所述X方向的圖形和位于所述Y方向的圖形全部曝光出來；
所述光刻后實施疊加量測時，通過所述第一對準標記的位于X方向的圖形和所述第三對準標記的位于X方向的圖形來監控所述X方向的偏移誤差，通過所述第一對準標記的位于Y方向的圖形和所述第三對準標記的位于Y方向的圖形來監控所述Y方向的偏移誤差。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一對準標記的位于X方向的圖形和位于Y方向的圖形均為兩條平行線，所述第二對準標記的位于X方向的圖形和位于Y方向的圖形均為兩條平行線，所述第三對準標記的位于X方向的圖形和位于Y方向的圖形均為兩條平行線。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述器件中的上層圖形為接觸孔圖形。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述器件中的下層圖形為有源區圖形。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述器件中的下層圖形中的子圖形為自對準硅化物圖形。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述器件中的上層圖形為上層金屬互連層圖形。
7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述器件中的下層圖形為層間介電層圖形。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述器件中的下層圖形中的子圖形為下層金屬互連層圖形。
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