[發明專利]一種MoS2 有效
| 申請號： | 201610250811.6 | 申請日： | 2016-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN105712404B | 公開（公告）日： | 2018-05-18 |
| 發明（設計）人： | 陳心滿;冀鳳振;潘雪雪;匡鯉萍;章勇 | 申請（專利權）人： | 華南師范大學 |
| 主分類號： | C01G39/06 | 分類號： | C01G39/06 |
| 代理公司： | 廣州新諾專利商標事務所有限公司 44100 | 代理人： | 廖曉霞 |
| 地址： | 510631 廣東省廣州市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 mos base sub | ||
本發明提供一種MoS
技術領域
本發明屬于納米科學領域，特別涉及一種MoS
背景技術
類石墨烯結構MoS
量子點QD(Quantum Dots)是三維尺寸均在幾個納米范圍之內的顆粒，直徑小于10nm。此時，尺寸限域將引起尺寸效應、量子限域效應、宏觀量子隧道效應和表面效應。這使得量子點產品在生物醫學和光電器件方面有著廣闊的應用前景。目前合成量子點主要有物理法和化學法兩種，物理法如：超聲法、研磨法等。化學法主要通過以下幾種方式：金屬有機合成法、水相直接合成法、化學共沉淀法以及模板法等。其中金屬有機合成法是目前使用最為廣泛的方法。合成的產品雖然具有尺寸均勻和穩定性好，但是在生產過程中使用了大量的有毒性、高危險性和易揮發性溶劑，這些溶劑存在著價格成本高和環境污染等問題。因此，有必要探索一種操作簡便、安全環保、廉價高效、且適合大規模生產的量子點制備工藝。同時，盡管二維MoS
發明內容
針對現有MoS
本發明為達到其目的，采用的技術方案如下：一種MoS
1)配制含有2～6g/L的Na
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