[發(fā)明專利]一種中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置

在審

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• 申請日: 2016-04-20
• 公開（公告）號: CN105734533A
• 公開（公告）日: 2016-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 章嵩;李登峰;徐偉清;涂溶
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢理工大學(xué)
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;C23C16/455
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 崔友明

1.一種中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，包括石英管、感應(yīng)石墨和襯底，石英管外壁上套設(shè)有線圈，感應(yīng)石墨設(shè)置于石英管內(nèi)，感應(yīng)石墨下方設(shè)有底座，感應(yīng)石墨與底座之間設(shè)有多根支撐管，通過支撐管支撐連接，感應(yīng)石墨與底座之間設(shè)有移動(dòng)支座，移動(dòng)支座下端與底座上端支撐連接，襯底設(shè)置于移動(dòng)支座上端，移動(dòng)支座通過上下移動(dòng)調(diào)節(jié)襯底與感應(yīng)石墨的距離，石英管頂部設(shè)有進(jìn)氣裝置，原料氣體源通過進(jìn)氣管與進(jìn)氣裝置連接，原料氣體經(jīng)進(jìn)氣裝置進(jìn)入石英管內(nèi)腔，石英管下部設(shè)有泵。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，感應(yīng)石墨為管狀中空結(jié)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，移動(dòng)支座包括支座和中空陶瓷管，支座底部通過中空陶瓷管與底座上端連接，中空陶瓷管分為上中空陶瓷管和下中空陶瓷管，上中空陶瓷管下端套接于下中空陶瓷管的上端，上中空陶瓷管和下中空陶瓷管通過螺栓固定。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，中空陶瓷管內(nèi)設(shè)有第二熱電偶。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，感應(yīng)石墨設(shè)置于線圈中心。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，支撐管材料為陶瓷。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，多個(gè)支撐管中任意一個(gè)內(nèi)設(shè)有第一熱電偶。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述支撐管個(gè)數(shù)為3～5個(gè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管包括至少2根進(jìn)氣管，每根進(jìn)氣管上依次設(shè)有流量計(jì)和閥門。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的中頻感應(yīng)加熱化學(xué)氣相沉積裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管的個(gè)數(shù)為3個(gè)，其中一個(gè)進(jìn)氣管上設(shè)有原料罐，原料罐設(shè)置于流量計(jì)和閥門之間。