[發(fā)明專利]單元、清潔單元、處理盒和成像設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610245133.4
• 申請日: 2013-09-13
• 公開（公告）號: CN105759582B
• 公開（公告）日: 2019-03-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山口理知;福井悠一;宗次廣幸;藤野俊輝;沼田哲哉;野中文人
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G21/00
• 分類號: G03G21/00;G03G21/18
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 林振波

本發(fā)明涉及單元、清潔單元、處理盒和成像設(shè)備。一種可用于成像設(shè)備的清潔單元，包括：清潔刮刀，其由框架支承并且包括可接觸圖像承載鼓的自由端，以用于從鼓上移除顯影劑；第一密封件，其通過鄰近刮刀的縱向端部注塑到框架中而設(shè)置在框架和刮刀之間，第一密封件能防止顯影劑泄漏；和第二密封構(gòu)件，其設(shè)置在鼓和框架之間，在鄰近所述縱向端部處與刮刀的自由端接觸；其中，第一密封件包括接觸刮刀的密封部和支承第二密封件的座部。

本發(fā)明是2013年9月13日提出的、名稱為“單元、清潔單元、處理盒和成像設(shè)備”的發(fā)明專利申請No.201310415646.1的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種單元、一種清潔單元、一種處理盒和一種成像設(shè)備。

背景技術(shù)

已知的是，某些電子照相成像設(shè)備(例如，采用電子照相處理的打印機)設(shè)有清潔單元，用于去除殘留在作為圖像承載部件的感光鼓(在其上形成調(diào)色劑圖像)上的作為顯影劑的調(diào)色劑。清潔單元設(shè)有清潔單元框架和清潔刮刀，該清潔刮刀被框架支承以使其保持與感光鼓接觸。被清潔刮刀移除的廢調(diào)色劑保存在廢調(diào)色劑儲存部中。

此時，參見圖12，描述了一種傳統(tǒng)的調(diào)色劑密封結(jié)構(gòu)。在圖12中，(a)是傳統(tǒng)清潔單元的俯視圖，示出了用于防止廢調(diào)色劑泄漏的單元的結(jié)構(gòu)布置。在圖12中，(b)是清潔單元在圖12(a)中的平面W-W處的剖視圖。在圖12中，(c)是圖12(b)的一部分的放大圖。下文中，平行于感光鼓4旋轉(zhuǎn)軸軸向的方向(由圖12(a)中的箭頭標(biāo)記X標(biāo)出)稱為縱向。

參見圖12(a)，清潔單元8設(shè)有一對彈性部件86(86R和86L)，它們與清潔刮刀7的縱向兩端一對一地相鄰。彈性部件86R和86L防止保存在廢調(diào)色劑儲存部26a中的廢調(diào)色劑從感光鼓4和清潔刮刀7之間的間隙處泄漏。

還參見圖12(a)，清潔單元8設(shè)有一對清潔刮刀端部密封件(下文簡單地稱為端部密封件)85R和端部密封件85L，用于防止廢調(diào)色劑從清潔單元框架26和感光鼓4之間的間隙處泄漏。端部密封件85R和85L在形狀上是相同的，并且相對于清潔單元8的縱向中心對稱地定位。因此，下面僅描述彈性構(gòu)件86R；不描述端部密封件85L。

參見圖12(c)，端部密封件85R定位在彈性部件86R的頂部。在清潔單元的組裝期間，在清潔刮刀7之前將端部密封件85R粘貼到清潔單元框架26上。因此，必須防止清潔刮刀7與端部密封件85R重疊。因此，必須在端部密封件85R和清潔刮刀7之間提供間隙60。

在日本公開專利申請JP2005-234164中公開了用于提供間隙60的器件的一例。根據(jù)該申請，端部密封件85R和85L為大致L形的；它們設(shè)有凸出部85aR和85aL，如圖12(a)所示。所述凸出部85aR和85aL防止可能發(fā)生在清潔刮刀7的縱向端面7fR和7fL處的調(diào)色劑泄漏。

然而，在上述用于防止廢調(diào)色劑泄漏的結(jié)構(gòu)布置的情況中，端部密封件必須非常精確地粘貼到清潔單元框架上，以防止調(diào)色劑從端部密封件和清潔刮刀之間的間隙處泄漏。類似地，端部密封件和清潔刮刀必須非常精確地相對于彼此定位。這有時增加了制造清潔單元的成本。此外，為端部密封件85提供凸出部85a將會增大端部密封件的尺寸并且相應(yīng)地增加了用于制造清潔單元的成本。

此外，在日本公開專利申請JP 2005-234164中公開的清潔單元的情況中，為了防止調(diào)色劑泄漏，將各密封件粘貼到清潔單元框架所具有的支架上，并且通過加壓部件來將支架壓到旋轉(zhuǎn)部件上。此外，將它們朝旋轉(zhuǎn)部件的旋轉(zhuǎn)軸線加壓。然而，該種結(jié)構(gòu)布置增加了清潔單元中的部件數(shù)，進而增加了清潔單元的制造成本。

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明的主要目的是提供一種清潔單元，與現(xiàn)有技術(shù)的任何清潔單元相比，成本更低并且基本上更好地密封住顯影劑的泄漏。