[發明專利]雙頻電感耦合射頻等離子體噴射沉積金剛石的方法有效
| 申請號: | 201610245107.1 | 申請日: | 2016-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN105839071B | 公開(公告)日: | 2018-01-02 |
| 發明(設計)人: | 陳廣超;左勇剛;李佳君;白旸;劉浩;袁禾蔚 | 申請(專利權)人: | 中國科學院大學 |
| 主分類號: | C23C16/27 | 分類號: | C23C16/27;C23C16/505 |
| 代理公司: | 北京華誼知識產權代理有限公司11207 | 代理人: | 劉月娥 |
| 地址: | 100049 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙頻 電感 耦合 射頻 等離子體 噴射 沉積 金剛石 方法 | ||
1.一種雙頻電感耦合射頻等離子體噴射沉積金剛石的方法,在雙頻電感耦合射頻放電等離子體噴射化學氣相沉積系統中進行;其特征在于,
采用氬氣,氫氣和甲烷混合氣體為等離子體源氣體,在混合氣體中,氬氣,氫氣的流量分別為1-5slm,0.2-1slm,甲烷流量與氫氣的流量比為1%-8%,;射頻電感耦合放電采用雙頻率激發和維持等離子體,總激發功率為1-10KW,高頻功率為500-2000W,低頻功率為2500-10000W,高頻率與低頻率的頻率比在3~4范圍;激發出的等離子體炬以等離子體運動軸線與襯底法線夾角為60°~90°的掠射角掠過襯底表面;沉積系統中的背底真空為10-2-10-1Pa,當工作氣體通入后,首先高頻放電激發等離子體起輝,然后升高氣壓至預定壓強5000-15000Pa,打開低頻電源,加熱維持等離子體;襯底以機械鑲嵌或者真空釬焊的方式固定在具有水冷功能的基座上,襯底的尺寸為1-6cm2,襯底邊緣距等離子體發生器噴口的距離為0.5-3.0cm,沉積過程中,襯底溫度保持在850℃~1100℃之間。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





