[發明專利]基于單次曝光模式的光柵衍射效率光譜的測量裝置和方法有效
| 申請號： | 201610242396.X | 申請日： | 2016-04-19 |
| 公開（公告）號： | CN105928688B | 公開（公告）日： | 2018-06-19 |
| 發明（設計）人： | 劉世杰;王圣浩;張志剛;李靈巧;王微微;周游;潘本威;白云波 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02;G01J3/28 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 張澤純;張寧展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光柵衍射效率 光譜 測量 線陣CCD探測器 原位時間分辨 凹面聚焦鏡 凹面準直鏡 光柵 測量裝置 測試系統 光譜參數 光源模塊 參考光 測試光 機械穩定性 標準參考 參考光束 測量過程 測試光束 單次曝光 機械結構 光源 靜止 測試 應用 | ||
【權利要求書】：
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