[發(fā)明專利]一種寬光譜量子級聯(lián)紅外探測器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610236249.1 | 申請日: | 2016-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN105789354A | 公開(公告)日: | 2016-07-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周孝好;李梁;溫潔;鄭元遼;周玉偉;李寧;李志鋒;甄紅樓;陳平平;陸衛(wèi) | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0352 | 分類號: | H01L31/0352;H01L31/101 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 光譜 量子 級聯(lián) 紅外探測器 | ||
1.一種寬光譜量子級聯(lián)紅外探測器,包括襯底(1)、多量子阱(2)上電 極(3),下電極(4),其特征在于:
所述的紅外探測器的結(jié)構(gòu)為GaAs或InP襯底(1)上采用分子束外延或金 屬有機(jī)氣相沉積薄膜生長技術(shù)依次生長下電極層、交替的勢壘層和量子阱層、 上電極層,形成一個(gè)GaAs/AlGaAs或InGaAs/InAlAs多量子阱(2);在上電極 層上制備上電極(3),下電極層上制備下電極(4);
所述的多量子阱(2)結(jié)構(gòu)為:
C1L1(AL2)nC2,
C1為下電極層,與量子阱層采用相同材料,Si摻雜,濃度為1018/cm3,厚 度為0.5μm到1μm;C2為上電極層,與量子阱層采用相同材料,Si摻雜,濃 度為1018/cm3,厚度為0.1μm到0.3μm;L1為寬勢壘層,厚度為40到60nm; L2為二個(gè)單一周期之間的勢壘隔離層,厚度為2到3nm;
A為單一周期,即為多量子阱耦合結(jié)構(gòu)的基本探測單元,其構(gòu)成結(jié)構(gòu)為:
QW1L1’QW2L2’QW3L3’QW4L4’QW5L5’QW6L6’QW7L7’QW8
其中:量子阱層QW1…QW8為寬度不一的量子阱層,其中QW1和QW2進(jìn)行摻 雜,量子阱層QW1…QW8厚度為2到8nm;勢壘層L1’…L7’為寬度不一的勢壘 層,厚度為3到6nm;L2’QW3L3’QW4L4’QW5L5’QW6L6’QW7L7’QW8組成級 聯(lián)結(jié)構(gòu);
n為周期數(shù),n為30-50個(gè)周期;
上電極(3)和下電極(4)結(jié)構(gòu)為:自下而上依次100nm的AuGe層,20nm 的Ni層,400nm的Au層,或者50nm的Ti層,400nm的Au層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種寬光譜量子級聯(lián)紅外探測器,其特征在于: 所說的上電極層(3)為二維光柵形狀,其兩個(gè)維度的周期均為2.5μm,孔為 正方形,兩個(gè)平面維度的寬度均為1.5μm,孔的深度為0.6μm。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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