[發(fā)明專利]提高粉體材料表面親水性的等離子體改性裝置及處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610235932.3 | 申請(qǐng)日: | 2016-04-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105742143B | 公開(公告)日: | 2017-07-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張波;邵漢良;張洪光;吳廣瑞;吳燹;王業(yè)浩;徐佳豪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 常州機(jī)電職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | H01J37/02 | 分類號(hào): | H01J37/02;H01J37/16;H05H1/24 |
| 代理公司: | 常州市維益專利事務(wù)所(普通合伙)32211 | 代理人: | 路接洲 |
| 地址: | 213164 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 提高 材料 表面 親水性 等離子體 改性 裝置 處理 方法 | ||
1.一種提高粉體材料表面親水性的等離子體改性裝置,具有真空容器(1),其特征是:所述的真空容器(1)內(nèi)設(shè)有作為放電空間的玻璃內(nèi)筒(2),玻璃內(nèi)筒(2)兩側(cè)分設(shè)有向玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)放電的左電極(3)和右電極(4),真空容器(1)底部連接有向玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)加入待處理粉體材料的儲(chǔ)料筒(5),玻璃內(nèi)筒(2)底部設(shè)有收集處理后粉體材料的收集器(6),真空容器(1)管路連接有去除玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)水分和空氣的真空抽氣系統(tǒng)(7)、維持玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)部真空度的通氣控制系統(tǒng)(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高粉體材料表面親水性的等離子體改性裝置,其特征是:所述的左電極(3)和右電極(4)為電容式放電結(jié)構(gòu),左、右電極(3)、(4)呈半圓弧形對(duì)稱分布在玻璃內(nèi)筒(2)兩側(cè),左、右電極(3)、(4)分別線路連接射頻電源(9)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高粉體材料表面親水性的等離子體改性裝置,其特征是:所述的儲(chǔ)料筒(5)通過蝶閥(10)與真空容器(1)底部連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高粉體材料表面親水性的等離子體改性裝置,其特征是:所述的玻璃內(nèi)筒(2)上下端分別通過支架(11)對(duì)應(yīng)與真空容器(1)的頂部和底部固定,收集器(6)與玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)壁滑動(dòng)配合,真空容器(1)頂部設(shè)有可向上取出收集器(6)的開啟式封頭(12)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高粉體材料表面親水性的等離子體改性裝置,其特征是:所述的真空抽氣系統(tǒng)(7)通向玻璃內(nèi)筒(2)的管路上連接有氣壓檢測(cè)系統(tǒng)(13)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高粉體材料表面親水性的等離子體改性裝置,其特征是:所述的真空容器(1)側(cè)壁上設(shè)有屏蔽式的觀察窗(14)。
7.一種使用權(quán)利要求1所述等離子體改性裝置對(duì)粉體材料進(jìn)行表面親水性處理的方法,具有如下步驟:
a、啟動(dòng)真空抽氣系統(tǒng)(7),保持玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)的本底真空為0.1~1Pa,以去除玻璃內(nèi)筒內(nèi)(2)的水分和空氣;
b、打開通氣控制系統(tǒng)(8),向玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)充入氬氣,使玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)的工作真空度保持在5~10Pa;
c、維持向玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)邊抽氣、邊充氣3~5min,以保持玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)真空度值的穩(wěn)定;
d、儲(chǔ)料筒(5)與玻璃內(nèi)筒(2)連通,通過內(nèi)外壓差作用將儲(chǔ)料筒(5)內(nèi)待處理的粉體材料充盈至玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi),玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)的真空度保持在30~60Pa;
e、關(guān)閉儲(chǔ)料筒(5)與玻璃內(nèi)筒(2)的連通,同時(shí)關(guān)閉真空抽氣系統(tǒng)(7)和通氣控制系統(tǒng)(8),左電極(3)和右電極(4)通電產(chǎn)生輝光放電效應(yīng)而對(duì)玻璃內(nèi)筒(2)內(nèi)的粉體材料實(shí)施等離子體改性處理,左電極(3)和右電極(4)的放電持續(xù)時(shí)間為1~3min;
f、等離子體改性處理好的粉體材料落入收集器(6)內(nèi)收集后沿玻璃內(nèi)筒(2)向上移動(dòng),從真空容器(1)頂部取出。
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