[發明專利]粒子感測裝置、以及具有粒子感測裝置的電子設備

有效

• 申請號: 201610235833.5
• 申請日: 2016-04-15
• 公開（公告）號: CN107300515B
• 公開（公告）日: 2020-07-14
• 發明（設計）人: 何羽軒;吳怡德
• 申請（專利權）人: 華邦電子股份有限公司
• 主分類號: G01N15/02
• 分類號: G01N15/02;G01N15/06
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 任巖

1.一種粒子感測裝置，其特征在于，包括：

基板，具有凹槽，包括貫穿所述基板的底部的通孔；以及

至少一粒子感測元件，設置于所述基板內而不暴露于外界，

其中，所述粒子感測元件包括：

第一電極對，設置于所述基板的內部，所述第一電極對的兩個第一子電極分別鄰近所述凹槽的兩側設置，所述兩個第一子電極之間具有第一間距；以及

第二電極對，設置于所述基板的內部，所述第二電極對的兩個第二子電極分別鄰近所述凹槽的兩側設置，所述兩個第二子電極之間具有第二間距，其中，所述第一間距小于所述第二間距，所述第一電極對較所述第二電極對接近所述基板的所述底部，

其中，所述粒子感測裝置被配置為藉由量測在所述兩個第一子電極之間的一第一電容的改變來感測尺寸相應于所述第一間距的粒子，以及藉由量測在所述兩個第二子電極之間的一第二電容的改變來感測尺寸相應于所述第二間距的粒子，

其中，所述通孔被配置以允許氣體進入所述凹槽，使所述粒子遠離所述通孔而自所述凹槽排出。

2.根據權利要求1所述的粒子感測裝置，其特征在于，還包括：

第三電極對，設置于所述基板的內部，所述第三電極對的兩個第三子電極分別鄰近所述凹槽的兩側設置，所述兩個第三子電極之間具有第三間距，其中，所述第二間距小于所述第三間距，所述第二電極對較所述第三電極對接近所述通孔。

3.根據權利要求2所述的粒子感測裝置，其特征在于，還包括：

第四電極對，設置于所述基板的內部，所述第四電極對的兩個第四子電極分別鄰近所述凹槽的兩側設置，所述兩個第四子電極之間具有第四間距，其中，所述第三間距小于所述第四間距，所述第三電極對較所述第四電極對接近所述通孔。

4.根據權利要求3所述的粒子感測裝置，其特征在于，所述第一間距為2.5微米，所述第二間距為10微米，所述第三間距為50微米，所述第四間距為100微米。

5.根據權利要求1所述的粒子感測裝置，其特征在于，還包括：

空氣泵，設置于所述通孔的下方。

6.根據權利要求1所述的粒子感測裝置，其特征在于，所述粒子感測元件為多個，多個所述粒子感測元件沿著所述基板的設定方向進行排列。

7.根據權利要求1所述的粒子感測裝置，其特征在于，所述凹槽的剖面形狀包括：V字型、U字型或階梯型。

8.一種電子設備，其特征在于，包括：

裝置本體；以及

粒子感測裝置，電性結合于所述裝置本體，所述粒子感測裝置包括：

基板，具有凹槽，包括貫穿所述基板的底部的通孔；以及

至少一粒子感測元件，設置于所述基板內而不暴露于外界，其中，所述粒子感測元件包括：

第一電極對，設置于所述基板的內部，所述第一電極對的兩個第一子電極分別鄰近所述凹槽的兩側設置，所述兩個第一子電極之間具有第一間距；以及

第二電極對，設置于所述基板的內部，所述第二電極對的兩個第二子電極分別鄰近所述凹槽的兩側設置，所述兩個第二子電極之間具有第二間距，其中，所述第一間距小于所述第二間距，所述第一電極對較所述第二電極對接近所述基板的所述底部，

其中，所述粒子感測裝置被配置為藉由量測在所述兩個第一子電極之間的一第一電容的改變來感測尺寸相應于所述第一間距的粒子，以及藉由量測在所述兩個第二子電極之間的一第二電容的改變來感測尺寸相應于所述第二間距的粒子，

其中，所述通孔被配置以允許氣體進入所述凹槽，使所述粒子遠離所述通孔而自所述凹槽排出。

9.根據權利要求8所述的電子設備，其特征在于，還包括：

第三電極對，設置于所述基板的內部，所述第三電極對的兩個第三子電極分別鄰近所述凹槽的兩側設置，所述兩個第三子電極之間具有第三間距，其中，所述第二間距小于所述第三間距，所述第二電極對較所述第三電極對接近所述通孔。