[發(fā)明專利]一種在光學元件上制作涂鍍層的方法及光學元件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610232252.6
• 申請日: 2016-04-14
• 公開（公告）號: CN105738976B
• 公開（公告）日: 2017-11-17
• 發(fā)明（設計）人: 王曉浩;周倩;胡海飛;李星輝;倪凱;燕鵬;張錦超;逄錦超
• 申請（專利權）人: 清華大學深圳研究生院
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;G02B1/14;G02B27/00;G02B5/18
• 代理公司: 深圳新創(chuàng)友知識產權代理有限公司44223
• 代理人: 王震宇

1.一種在光學元件上制作涂鍍層的方法，其特征在于,包括如下步驟：

鑒別光學元件的表面形貌特征，確定其凹凸形態(tài)；

對于表面形貌特征確定為凹形態(tài)的光學元件，通過PCGrate仿真分析重構光學元件在具有多種不同厚度的涂鍍層時的表面形貌，仿真并比較不同涂鍍層厚度時光學元件的性能，分析不同涂鍍層厚度對于光學元件的性能的影響，以確定最佳涂鍍層厚度，所述最佳涂鍍層厚度為不超過光學元件表面微細結構的最小凹形態(tài)尺寸的十分之一；

基于所確定的最佳涂鍍層厚度，在光學元件上制作涂鍍層。

2.如權利要求1所述的在光學元件上制作涂鍍層的方法，其特征在于,所述光學元件為光柵周期為1μm、槽深為250nm的矩形槽光柵，所述最佳涂鍍層厚度為不超過25nm。

3.如權利要求2所述的在光學元件上制作涂鍍層的方法，其特征在于,所述最佳涂鍍層厚度為10-25nm。

4.如權利要求1所述的在光學元件上制作涂鍍層的方法，其特征在于,所述光學元件為圓環(huán)間距為100μm、槽深為17微米的菲涅爾透鏡，所述最佳涂鍍層厚度為不超過1.7μm。

5.如權利要求4所述的在光學元件上制作涂鍍層的方法，其特征在于,所述涂鍍層為采用化學氣相沉積的方法涂覆派瑞林材料。

6.如權利要求4或5所述的在光學元件上制作涂鍍層的方法，其特征在于,所述最佳涂鍍層厚度為600nm-1.7μm。

7.如權利要求1所述的在光學元件上制作涂鍍層的方法，其特征在于,所述光學元件為圓環(huán)間距為100μm、槽深為17微米的菲涅爾透鏡，最佳涂鍍層為采用高分子聚合物自組裝自然在光學元件表面形成的10nm厚度的薄膜。