[發明專利]一種高發射率面源黑體輻射源及其制作方法有效
| 申請號： | 201610227670.6 | 申請日： | 2016-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN105910714B | 公開（公告）日： | 2018-12-18 |
| 發明（設計）人： | 郝小鵬;孫建平 | 申請（專利權）人： | 中國計量科學研究院 |
| 主分類號： | G01J5/00 | 分類號： | G01J5/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 發射 率面源 黑體 輻射源 及其 制作方法 | ||
【說明書】：
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