[發(fā)明專利]一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610220665.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-04-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105645464B | 公開(公告)日: | 2017-04-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 燕友果;周麗霞;張軍;劉冰;孫曉麗;牛氓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國石油大學(xué)(華東) |
| 主分類號(hào): | C01G15/00 | 分類號(hào): | C01G15/00 |
| 代理公司: | 青島聯(lián)智專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司37101 | 代理人: | 尚欣 |
| 地址: | 266580 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 尺寸 均勻 in2o3 八面體 納米 顆粒 制備 方法 | ||
1.一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,步驟為:
1)在反應(yīng)容器內(nèi)設(shè)置可獨(dú)立控溫的兩個(gè)溫區(qū),分別為原料區(qū)和襯底區(qū),以高純度的In金屬顆粒作為原料,放置于原料區(qū);在襯底區(qū)放入襯底;
2)反應(yīng)前,向反應(yīng)容器內(nèi)通入載氣,將反應(yīng)容器內(nèi)的空氣排出;
3)對(duì)原料區(qū)和襯底區(qū)分別加熱,原料區(qū)的溫度為900-1000℃,保溫;襯底區(qū)的溫度為400-500℃,保溫;
4)當(dāng)原料區(qū)和襯底區(qū)溫度達(dá)到上述溫度后,調(diào)整為載氣與氧氣的混合氣體,保持至整個(gè)加熱過程結(jié)束;
5) 步驟3)中保溫結(jié)束后,原料區(qū)降溫至700-800℃,保溫;襯底區(qū)升溫至500-700℃,保溫;保溫結(jié)束后自然冷卻至室溫,制備過程結(jié)束,得到In2O3八面體納米顆粒;
6)保溫結(jié)束后,將混合氣體調(diào)整為純載氣,并保持至反應(yīng)設(shè)備自然冷卻到室溫后停止。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟1)中采用陶瓷舟承載原料,使用前將陶瓷舟經(jīng)過1200-1500℃煅燒處理,所述陶瓷舟放置于原料區(qū)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟1)中襯底采用Si片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟1)中原料金屬In顆粒的純度≥99.99%,粒徑≤0.5mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟2)中載氣為氮?dú)饣蚨栊詺怏w,通入載氣流量為100-200 sccm,時(shí)間為 30-60min,所述載氣的純度≥99.999%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟3)中原料區(qū)和襯底區(qū)的保溫時(shí)間為3-8min,襯底區(qū)的溫度與原料區(qū)的溫度在時(shí)間上保持同步。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟4)中載氣與氧氣的體積比為40-50:1-3,所述載氣及氧氣的純度均≥99.999%。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟5)中原料區(qū)降溫后保溫時(shí)間為50-90min,襯底區(qū)升溫后保溫時(shí)間為70-90min。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟5)中原料區(qū)降溫后和襯底區(qū)升溫后的溫差為100-300℃。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種尺寸均勻In2O3八面體納米顆粒的制備方法,其特征在于,所述步驟5)中原料區(qū)降溫速率為40-60℃/min,沉淀區(qū)升溫速率為40-60℃/min。
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