[發(fā)明專利]圖像讀取裝置和光發(fā)射元件基片

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610217581.3
• 申請(qǐng)日: 2010-06-08
• 公開（公告）號(hào): CN105721735B
• 公開（公告）日: 2019-08-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 竹內(nèi)英夫
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 富士施樂株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H04N1/00
• 分類號(hào): H04N1/00;H04N1/028;H04N1/10;H04N1/12;H05K1/02
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 顧紅霞;何勝勇

1.一種光發(fā)射元件基片，其包括多個(gè)光發(fā)射元件，所述多個(gè)光發(fā)射元件在所述光發(fā)射元件基片上線性地排列并分成預(yù)定個(gè)數(shù)的組，所述光發(fā)射元件基片還包括：

布線，其形成在所述光發(fā)射元件基片的配置有所述光發(fā)射元件的表面以及與該表面相對(duì)的另一面上，并且在配置有所述光發(fā)射元件的表面上與同屬一個(gè)組內(nèi)的所述光發(fā)射元件相連，

其中，所述光發(fā)射元件基片具有通孔，所述通孔在所述光發(fā)射元件的所述布線上設(shè)置在所述光發(fā)射元件之間，并且所述通孔的內(nèi)表面上形成有金屬膜，

所述金屬膜與所述布線接觸，

所述布線包括形成在所述光發(fā)射元件基片的配置有所述光發(fā)射元件的所述表面上的第一布線以及形成在與所述表面相對(duì)的所述另一面上的第二布線，

所述金屬膜與所述第一布線和所述第二布線都接觸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光發(fā)射元件基片，其中，

所述光發(fā)射元件基片由層疊了多個(gè)層的疊層基片構(gòu)成，形成在所述通孔的內(nèi)表面上的金屬膜與形成在構(gòu)成所述疊層基片的內(nèi)部的層上的金屬膜接觸。