[發明專利]一種近紅外探測器及其制備方法在審
| 申請號: | 201610214093.7 | 申請日: | 2016-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN107275484A | 公開(公告)日: | 2017-10-20 |
| 發明(設計)人: | 潘革波;吳浩迪 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304 | 代理人: | 孫偉峰,侯藝 |
| 地址: | 215123 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紅外探測器 及其 制備 方法 | ||
1.一種近紅外探測器,其特征在于,從下至上依次包括:基底、底電極層、紅外感光層、頂電極層;
所述底電極層與所述紅外感光層之間還設有電子阻擋層;
所述紅外感光層包括上下設置的第一雜化層和第二雜化層;所述第一雜化層包括紅外感光量子點和n型半導體材料、所述第二雜化層包括紅外感光量子點和p型半導體材料。
2.根據權利要求1所述近紅外探測器,其特征在于,所述n型半導體材料與所述p型半導體材料分別與紅外感光量子點的質量比為1:9~2:5。
3.根據權利要求1所述近紅外探測器,其特征在于,所述電子阻擋層為聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚(苯乙烯磺酸),聚3-己基噻吩,聚(3,4-亞乙二氧基噻吩)、聚(2—甲氧基,5(2'—乙基己氧基)—1,4—苯撐乙烯撐)中的任一種。
4.根據權利要求1所述近紅外探測器,其特征在于,所述紅外感光量子點為硫化鉛、硫化硒、硫化鎘中的任一種。
5.根據權利要求1所述近紅外探測器,其特征在于,所述n型聚合物半導體為聚(5-(2-乙基己氧基)-2-甲氧基-氰基對苯二亞甲基)、[6,6]-苯基C61丁酸甲酯,1',1”,4',4”-四氫二[1,4]甲橋萘并[1,2:2',3';56,60:2”,3”][5,6]富勒烯-C60-IH中一種。
6.根據權利要求1所述近紅外探測器,其特征在于,所述p型聚合物半導體為聚(2—甲氧基,5(2'—乙基己氧基)—1,4—苯撐乙烯撐)、聚[2-甲氧基,5-(3′,7′二甲基-辛氧基)]-對苯撐乙撐、聚3-己基噻吩中一種。
7.根據權利要求1所述近紅外探測器,其特征在于,所述第一雜化層和/或第二雜化層的厚度范圍在50~500nm。
8.根據權利要求1所述近紅外探測器,其特征在于,所述紅外感光量子點的直徑范圍在1nm~100nm。
9.一種如權利要求1~8任一項所述近紅外探測器的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
在覆蓋有底電極層的基底上形成電子阻擋層材料;
在所述電子阻擋層上制備紅外感光層:先在所述電子阻擋層上涂布紅外感 光量子點和P型半導體材料形成第一雜化層;然后在所述第一雜化層上涂布紅外感光量子點和n型半導體材料形成第二雜化層;
最后在所述第二雜化層上形成頂電極層。
10.根據權利要求9所述近紅外探測器的制備方法,其特征在于,所述電子阻擋層、第一雜化層和第二雜化層的制備步驟中均需要在150~200℃烘干工序。
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H01L51-54 .. 材料選擇





