[發(fā)明專利]一種電子元件清洗劑有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610213084.6 | 申請日: | 2016-04-07 |
| 公開(公告)號: | CN105754765B | 公開(公告)日: | 2018-04-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡粉義 | 申請(專利權(quán))人: | 吳江市震宇縫制設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | C11D10/02 | 分類號: | C11D10/02 |
| 代理公司: | 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11246 | 代理人: | 連圍 |
| 地址: | 215223 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電子元件 洗劑 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種清洗劑,具體地說,本發(fā)明涉及一種電子元件清洗劑。
背景技術(shù)
在電子工業(yè)制造的電子元件的生產(chǎn)過程中,電子元器件在組裝前需要把表面的膠痕、助焊劑殘留等污物除去,采用清潔劑對部件進行清洗是必不可少的工藝過程,在清洗這些物質(zhì)時可能有一部分需要人工操作或在密閉的空間內(nèi)實施,這些要求不僅需要含氟清洗劑針對膠痕和焊劑殘留除污效果好,而且要求含氟清洗劑成分安全環(huán)保,揮發(fā)速率快,毒性低,氣味小,不易燃。采用的清洗劑大部分為含氟化合物作為含氟清洗劑的溶劑,其主要優(yōu)點是不燃或不易燃,即在不易燃的前提下達到良好的清洗效果,以前使用的最廣泛的主要是1,1,2-三氟三氯乙烷(簡稱CFC-113),CFC-113作為清洗溶劑,具有適度的溶解性能、良好的選擇性、低粘度、低表面張力、高浸潤性、快干性等優(yōu)點,而且具有不燃、低毒、低腐蝕、化學(xué)與熱穩(wěn)定等特征,所以特別適合應(yīng)用于電子、電機、精密機械、樹脂加工及精密光學(xué)等元器件的清洗,并可以作為干燥溶劑使用。但CFC-113的ODP值為0.8,ODP為臭氧消耗潛能的指標(biāo)表征,ODP數(shù)值越高,表示對臭氧的破壞能力越大。所以這也就說明CFC-113對大氣平流層的臭氧層有破壞影響。所以發(fā)達國家已于1996年1月1日對其禁止使用,我國也在2006年完全淘汰了CFC-113的使用。
可以替代CFC-113且ODP值較低的溶劑主要有氫氟氯烴類、氫氟烴類、全氟烴類、氫氟醚類、氯代烴類、氫溴烴類等。其中全氟烴類和氫氟醚類的ODP值更低至0,可被選作CFC-113更環(huán)保的替代品。但是,對于不同的清洗要求、清洗方式和清洗環(huán)境,單一組分難易達到理想的清洗效果,所以需要與其他具有不同特性的溶劑混合組成組合物,以滿足各種不同的清洗要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種電子元件用清洗劑,該清洗劑以O(shè)DP為0的氫氟醚類為主要溶劑和其他組分相配合,滿足環(huán)保、低毒、低溫室效應(yīng)要求,該清洗劑具有良好的清洗性能,同時泡沫低,無腐蝕,揮發(fā)小,殘留少,黏度低,能夠很好地對電子元件進行清洗,同時不會對電子元件造成不良影響。
本發(fā)明采用的技術(shù)方案為一種電子元件清洗劑,包括如下重量份的組分:
聚環(huán)氧琥珀酸:2~8份;APG-烷基多苷:1~5份;
酸性清洗劑:0.1~3份;SAS-仲烷基磺酸鈉:1~7份;
氫氟醚:6~20份;水溶性有機胺pH調(diào)節(jié)劑:1~3份;
消泡劑:0.1~1份;甲基環(huán)氧氯丙烷:0.1~3份;
穩(wěn)定劑:0.1~3份;有機溶劑:5~12份。
優(yōu)選的是,所述酸性清洗劑為甲烷磺酸或乙烷磺酸。
優(yōu)選的是,所述氫氟醚為含C5~C10的氟代氫氟醚或其混合物。
優(yōu)選的是,所述穩(wěn)定劑為含C2-C7的氟代醇或其混合物。
優(yōu)選的是,所述有機溶劑為乙醇、丙酮二種的混合物,乙醇重量百分比為50%~80%,丙酮重量百分比為20%~50%。
優(yōu)選的是,所述水溶性有機胺pH調(diào)節(jié)劑為一乙醇胺,二乙醇胺、三乙醇胺、環(huán)己胺、2-氨基-2-甲基-1-丙醇中的一種或多種。
本發(fā)明至少包括以下有益效果:
(1)本發(fā)明以氫氟醚為主要溶劑,輔配以其他成分,具有揮發(fā)速率相對較快、無閃點,不燃、儲存穩(wěn)定性好,相對CFC-113溶解能力較弱,但是更安全環(huán)保,通過加入聚環(huán)氧琥珀酸可以增強APG-烷基多苷、SAS-仲烷基磺酸鈉功效,降低電子元件的表面張力,有助于增強氫氟醚的去污能力;
(2)本發(fā)明的泡沫低,無腐蝕,揮發(fā)小,殘留少,黏度低,能夠很好地對電子元件進行清洗,同時不會對電子元件造成不良影響,加入穩(wěn)定劑可以保持化學(xué)平衡,降低表面張力,防止光、熱分解或氧化分解,加入水溶性有機胺pH調(diào)節(jié)劑,可以滿足洗滌過程對電子零件無損傷,通過引入特定配比的有機溶劑和甲基環(huán)氧氯丙烷,可以提高清洗劑的揮發(fā)速率,具備快速、高效的特點。
具體實施方式
以下將結(jié)合具體實施例來詳細(xì)說明本發(fā)明的實施方式,借此對本發(fā)明如何應(yīng)用技術(shù)手段來解決技術(shù)問題,并達到技術(shù)效果的實現(xiàn)過程能充分理解并據(jù)以實施。
若未特別指明,實施例中所采用的技術(shù)手段為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的常規(guī)手段,所采用的原料也均為可商業(yè)獲得的。未詳細(xì)描述的各種過程和方法是本領(lǐng)域中公知的常規(guī)方法。
一種電子元件清洗劑,包括如下重量份的組分:
聚環(huán)氧琥珀酸:2~8份;APG-烷基多苷:1~5份;
酸性清洗劑:0.1~3份;SAS-仲烷基磺酸鈉:1~7份;
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