[發(fā)明專利]彎曲不敏感的耐輻照單模光纖有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610209017.7 | 申請(qǐng)日: | 2016-04-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105676349B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-11-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莫琦;黃麗潔;喻煌;劉騁;陳文;余志強(qiáng);王冬香;蔡冰峰;陳黎明;史惠萍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢郵電科學(xué)研究院;烽火通信科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B6/036 | 分類號(hào): | G02B6/036 |
| 代理公司: | 北京捷誠(chéng)信通專利事務(wù)所(普通合伙)11221 | 代理人: | 王衛(wèi)東 |
| 地址: | 430074 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彎曲 敏感 輻照 單模 光纖 | ||
1.一種彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,包括由內(nèi)至外依次排列的芯層(1)、內(nèi)包層、外包層(4),所述芯層(1)、內(nèi)包層、外包層(4)的材質(zhì)均為石英,其特征在于:所述內(nèi)包層包括由內(nèi)至外排列的第一摻氟內(nèi)包層(2)、第二摻氟內(nèi)包層(3),所述芯層(1)和第一摻氟內(nèi)包層(2)均不摻雜鍺元素,其他金屬雜質(zhì)以及磷元素濃度均低于0.1ppm;以質(zhì)量百分比計(jì),芯層(1)中摻雜的氟元素含量為0~0.45%,氯元素含量為0.01%~0.10%;第一摻氟內(nèi)包層(2)中的氟元素濃度為1.00%~1.55%,第二摻氟內(nèi)包層(3)中的氟元素濃度為3.03%~5.00%。
2.如權(quán)利要求1所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:所述芯層(1)與第一摻氟內(nèi)包層(2)的相對(duì)折射率差的最大值△1max為0.13%~0.30%;所述第一摻氟內(nèi)包層(2)與第二摻氟內(nèi)包層(3)的相對(duì)折射率差的最大值△2max為0.40%~0.96%,第二摻氟內(nèi)包層(3)的折射率小于第一摻氟內(nèi)包層(2)的折射率;所述第二摻氟內(nèi)包層(3)與外包層(4)的相對(duì)折射率差的最大值△3max為-0.28%~-1.09%。
3.如權(quán)利要求2所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:所述芯層(1)與第一摻氟內(nèi)包層(2)的相對(duì)折射率差的最大值△1max為0.30%;所述第一摻氟內(nèi)包層(2)與第二摻氟內(nèi)包層(3)相對(duì)折射率差的最大值△2max為0.61%,第二摻氟內(nèi)包層(3)與外包層相對(duì)折射率差最大值的最大值△3max為-0.91%。
4.如權(quán)利要求3所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:該單模光纖在1310nm波長(zhǎng)處的衰減系數(shù)為0.322dB/km,在1550nm波長(zhǎng)處的衰減系數(shù)為0.185dB/km,在1625nm波長(zhǎng)處的衰減系數(shù)為0.186dB/km。
5.如權(quán)利要求3所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:該單模光纖在10mm彎曲直徑下卷繞一圈時(shí),在1550nm波長(zhǎng)處的彎曲損耗為0.11dB,在1625nm波長(zhǎng)處的彎曲損耗為0.21dB。
6.如權(quán)利要求1所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:所述芯層(1)的半徑R1為3.9~4.3μm,所述第一摻氟內(nèi)包層(2)的半徑R2為5~34μm,所述第二摻氟內(nèi)包層(3)的半徑R3為22~48μm。
7.如權(quán)利要求6所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:所述芯層(1)的半徑R1為4μm;第一摻氟內(nèi)包層(2)的半徑R2為30μm,第二摻氟內(nèi)包層(3)的半徑R3為46μm。
8.如權(quán)利要求1所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:伽馬輻照劑量為2000kGy時(shí),該單模光纖在1310nm波長(zhǎng)處的輻照附加損耗小于14.8dB/km。
9.如權(quán)利要求1所述的彎曲不敏感的耐輻照單模光纖,其特征在于:該單模光纖外包覆有光纖涂覆層,光纖涂覆層采用耐高溫的丙烯酸樹(shù)脂、硅橡膠、聚酰亞胺、碳或金屬中的1~2種制成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢郵電科學(xué)研究院;烽火通信科技股份有限公司,未經(jīng)武漢郵電科學(xué)研究院;烽火通信科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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