[發(fā)明專利]一種暗挖淺覆大斷面隧道施工方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610207264.3
• 申請日: 2016-04-06
• 公開（公告）號: CN105863648B
• 公開（公告）日: 2018-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘭振忠;曲艷強(qiáng);石曉旭;李雪峰;董正友;董巖;曹鵬程;倪修泉;李勝臣;張春剛;李秀華
• 申請（專利權(quán)）人: 中鐵二十三局集團(tuán)第二工程有限公司
• 主分類號: E21D9/00
• 分類號: E21D9/00;E21D11/10;E21D11/38;E21D11/12;E21D20/00
• 代理公司: 四川力久律師事務(wù)所51221
• 代理人: 王蕓,熊曉果

1.一種暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，包括以下步驟：

a、開挖前對開挖區(qū)域進(jìn)行封閉降水；

b、測量放樣將隧道斷面規(guī)劃為左上洞室(1)、左下洞室(2)、右上洞室(3)、右下洞室(4)、中上洞室(5)和中下洞室(6)；

c、在所述左上洞室(1)和右上洞室(3)拱頂設(shè)置超前小導(dǎo)管(7)或者大管棚，所述超前小導(dǎo)管(7)或者大管棚預(yù)注漿，先開挖所述左上洞室(1)和右上洞室(3)，后開挖所述左下洞室(2)和右下洞室(4)，開挖后設(shè)置初期支護(hù)(9)和臨時(shí)支護(hù)(10)，采用鎖腳錨管(8)加固所述初期支護(hù)(9)和臨時(shí)支護(hù)(10)墻腳；

d、在所述中上洞室(5)拱頂設(shè)置所述超前小導(dǎo)管(7)或者大管棚，所述超前小導(dǎo)管(7)或者大管棚預(yù)注漿，依次開挖所述中上洞室(5)和中下洞室(6)并設(shè)置所述初期支護(hù)(9)和所述臨時(shí)支護(hù)(10)，采用所述鎖腳錨管(8)加固所述初期支護(hù)(9)墻腳；

e、在所述初期支護(hù)(9)背后注漿，逐步拆除所述左下洞室(2)、右下洞室(4)和中下洞室(6)的所述臨時(shí)支護(hù)(10)并施作防水層，然后沿邊墻施作二次襯砌(11)并預(yù)留鋼筋及防水板接頭；

f、逐步拆除剩余所述臨時(shí)支護(hù)(10)，施作所述左上洞室(1)、右上洞室(3)和中上洞室(5)的防水層并沿邊墻施作所述二次襯砌(11)，使所述二次襯砌(11)封閉成環(huán)，然后在所述二次襯砌(11)背后注漿。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，在所述步驟c中，所述左上洞室(1)的掌子面較所述左下洞室(2)的掌子面超前距離為L₁，其值為3-5m，所述右上洞室(3)的掌子面較所述右下洞室(4)的掌子面超前距離為L₂，其值為3-5m。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，在所述步驟c中，所述左上洞室(1)的掌子面較所述右上洞室(3)的掌子面超前距離為L₃，其值為10-15m。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，在所述步驟d中，所述中上洞室(5)的掌子面較所述中下洞室(6)的掌子面超前距離為L₄，其值為3-5m。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，在所述步驟c和步驟d中，所述右上洞室(3)的掌子面較所述中上洞室(5)的掌子面超前距離為L₅，其值為10-15m。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，所述隧道斷面拱頂設(shè)置所述超前小導(dǎo)管(7)或者大管棚的角度為γ，其值為130°-150°。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，所述超前小導(dǎo)管(7)或者大管棚的外插角度為θ，其值為0°-10°。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，所述超前小導(dǎo)管(7)或者大管棚為無縫鋼管。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，在所述步驟e中，所述初期支護(hù)(9)背后注漿采用在所述初期支護(hù)(9)側(cè)壁鉆孔插入注漿小導(dǎo)管并注漿。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的暗挖淺覆大斷面隧道施工方法，其特征在于，在所述步驟f中，所述二次襯砌(11)背后注漿采用在所述二次襯砌(11)側(cè)壁鉆孔插入注漿小導(dǎo)管并注漿。