[發(fā)明專(zhuān)利]一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610206054.2 | 申請(qǐng)日: | 2016-04-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105603213B | 公開(kāi)(公告)日: | 2017-08-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 湯荷生;陳居岡;張平 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 江西同德盛元鎳業(yè)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C22B23/00 | 分類(lèi)號(hào): | C22B23/00;C22B7/00;C22B9/20;B22F9/08;C22C19/03 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 343100 *** | 國(guó)省代碼: | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 廢料 生產(chǎn) 水淬鎳豆 方法 | ||
1.一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:其工藝流程包括熔煉爐熔煉、電弧爐精煉和水淬過(guò)程,采用熔煉爐設(shè)有三個(gè)開(kāi)口,分別為原料入口、熔煉渣排口和粗鎳出口,空氣從設(shè)置在所述熔煉爐上的爐膛風(fēng)管鼓入所述熔煉爐內(nèi),所述爐膛風(fēng)管和所述原料入口均設(shè)置在于所述熔煉爐相連接的密閉空間內(nèi),且所述原料入口水平設(shè)置,所述爐膛風(fēng)管從所述熔煉爐側(cè)面密閉空間的頂部接入,使原料入口呈負(fù)壓狀態(tài),本方法的具體步驟如下,其中步驟一到步驟五屬于熔煉爐熔煉過(guò)程,步驟六到步驟七屬于電弧爐精煉過(guò)程,步驟八屬于水淬過(guò)程:
步驟一:在鎳廢料加入熔煉爐內(nèi)之前,在熔煉爐內(nèi)加入木炭進(jìn)行點(diǎn)火烘爐,待爐溫升至400℃-600℃,改用10L-20L柴油和1t-1.5t焦炭繼續(xù)升溫,待爐溫逐漸升溫至 800℃-1000℃時(shí)停止加焦炭,加入磷鐵和鎳廢料,磷鐵和鎳廢料的質(zhì)量配比為0.5-0.8:1,在鎳廢料燃燒過(guò)程中,不斷鼓入空氣,使磷鐵充分燃燒;
步驟二:在熔煉爐內(nèi)加入造渣劑,造渣劑加入量與鎳廢料加入量的質(zhì)量配比為 0.20-0.30:1;
步驟三:排出熔煉爐的爐渣,爐渣經(jīng)水淬得到水淬渣,然后進(jìn)行后續(xù)處理,粗鎳留在爐中,繼續(xù)按步驟一的比例添加磷鐵和鎳廢料,不斷鼓入空氣;
步驟四:重復(fù)步驟三的工作,直到熔煉爐的粗鎳達(dá)到預(yù)定液位高度,進(jìn)行最后一次排渣后接著出粗鎳;
步驟五:將粗鎳直接澆鑄在模中鑄成塊狀,待自然冷卻后清除砂灰;
步驟六:將步驟五得到的鑄成塊狀的粗鎳分次放入電弧爐中,每個(gè)電弧爐每次加入粗鎳3t-5t,并加入200kg-250kg的氧化鐵皮和100kg-200kg的石灰進(jìn)行造渣,在造渣前鼓入空氣,進(jìn)行吹風(fēng)氧化,并持續(xù)1h-1.5h;
步驟七:在步驟六的氧化結(jié)束后加50kg-60kg的碳化硅進(jìn)行脫硫,反應(yīng)0.5h-1h,使產(chǎn)品斷面結(jié)晶致密;
步驟八:待電弧爐的爐溫升至1400℃-1600℃,將步驟七得到的精鎳直接倒入鋼包,再由鋼包倒入水淬槽中制成水淬鎳豆,水淬鎳豆的直徑小于50mm,將步驟七得到的電爐渣返回熔煉爐重復(fù)以上步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:所述木炭、柴油、焦炭、磷鐵和鎳廢料均從原料入口進(jìn)入所述熔煉爐,爐渣從熔煉渣排口排出,粗鎳從粗鎳出口排出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:所述原料入口距離所述熔煉爐的爐底1.8m-2.2m,所述熔煉渣排口距離所述熔煉爐的爐底 0.3m-0.4m,所述粗鎳排口距離所述熔煉爐的爐底0.1m-0.2m。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:在熔煉粗鎳時(shí)始終保持熔煉爐內(nèi)的溫度為1350℃-1400℃,爐內(nèi)溫度由溫度控制器測(cè)試顯示,可通過(guò)添加磷鐵與鎳廢料的方法來(lái)調(diào)節(jié)熔煉爐內(nèi)的溫度,當(dāng)熔煉爐內(nèi)的溫度過(guò)高時(shí)加入鎳廢料,當(dāng)熔煉爐內(nèi)的溫度過(guò)低時(shí)加入磷鐵。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:所述造渣劑采用主要成分為二氧化硅的河砂,使鐵以硅酸鹽的形式從爐體中排出,并控制爐渣中的二氧化硅量為20wt%-25wt%。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:所述河砂的添加量與鎳廢料的磷含量成反比,即鎳廢料的磷含量高,河砂可少加;鎳廢料的磷含量低,河砂應(yīng)多加,以控制最終粗鎳中的磷含量在1.0wt%-1.50wt%。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:出粗鎳周期平均為5-6天一次,每臺(tái)熔煉爐每次出粗鎳量13t-18t,粗鎳中鎳含量為60wt%-65wt%。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:所述步驟六后磷的含量可降到0.01wt%-0.05wt%,所述步驟七后硫的含量可降至0.1wt%-0.4wt%。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:所述步驟八得到的水淬鎳豆各成分含量如下:Ni:70wt%-75wt%,F(xiàn)e:20wt%-25wt%,S:0.1wt%-0.4wt%,P:0.01wt%-0.05wt%,Sn:0.01wt%-0.05wt%,C:0.10wt%-0.15wt% ,SiO2:0.2wt%-0.4wt%,Cu:1wt%-2wt%。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用鎳廢料生產(chǎn)水淬鎳豆的方法,其特征在于:所述熔煉爐、電弧爐的原料入口設(shè)置于密閉空間內(nèi),出渣口及出料口均設(shè)置環(huán)境集煙裝置內(nèi),收集的煙氣與熔煉爐、電弧爐等混合煙氣一并經(jīng)廊道水冷降溫,然后經(jīng)沉降室+布袋除塵+兩級(jí)串聯(lián)雙堿液濕法脫硫塔處理達(dá)標(biāo)高空排放,雙堿液分別為5%NaOH 溶液和氧化鈣。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于江西同德盛元鎳業(yè)有限公司,未經(jīng)江西同德盛元鎳業(yè)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610206054.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:銅冶煉過(guò)程鉍富集與回收的方法
- 下一篇:一種短流程火法煉鋅方法
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)設(shè)備和生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及產(chǎn)品生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)藥品的生產(chǎn)線(xiàn)和包括該生產(chǎn)線(xiàn)的生產(chǎn)車(chē)間
- 生產(chǎn)輔助系統(tǒng)、生產(chǎn)輔助方法以及生產(chǎn)輔助程序
- 生產(chǎn)系統(tǒng)、生產(chǎn)裝置和生產(chǎn)系統(tǒng)的控制方法
- 石料生產(chǎn)機(jī)制砂生產(chǎn)系統(tǒng)
- 生產(chǎn)系統(tǒng)以及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)及生產(chǎn)方法
- 生產(chǎn)系統(tǒng)和生產(chǎn)方法
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線(xiàn)程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





