[發明專利]超材料平板及其制備方法和超材料平板天線

有效

• 申請號: 201610204564.6
• 申請日: 2016-03-31
• 公開（公告）號: CN107293850B
• 公開（公告）日: 2023-10-20
• 發明（設計）人: 請求不公布姓名
• 申請（專利權）人: 深圳光啟高等理工研究院
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q1/36
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳小剛

1.一種超材料平板，包括：

基板；

形成在所述基板的上表面的金屬微結構；以及

形成在所述基板的下表面上的多個呈陣列排布的金屬貼片，其中所述多個金屬貼片彼此間隔設置。

2.如權利要求1所述的超材料平板，其特征在于，所述基板由上下兩層基板構成，并且其中所述超材料平板還包括將上層基板和下層基板粘合在一起的低介電系數材料，并且其中所述金屬微結構被形成在上層基板上且所述金屬貼片被形成在下層基板上。

3.如權利要求2所述的超材料平板，其特征在于，所述低介電系數材料是以下各項之一或其任何組合：紙蜂窩、泡沫塑料。

4.如權利要求1-3中的任一項所述的超材料平板，其特征在于，所述金屬微結構是以下各形式之一或其任何組合：兩個嵌套在一起的空心“十”字形金屬環、平行金屬線、金屬折線、金屬方環、金屬圓環。

5.如權利要求1-3中的任一項所述的超材料平板，其特征在于，所述金屬微結構和所述金屬貼片以固定形狀的晶格為單元來排布，其中所述金屬微結構和所述金屬貼片分別形成在所述晶格的上晶面和下晶面上。

6.如權利要求5所述的超材料平板，其特征在于，所述晶格的尺寸是根據所需波段以及所需的電性能來確定的。

7.如權利要求5所述的超材料平板，其特征在于，在每個固定形狀的晶格中，所述金屬微結構的尺寸、形狀和排布以及所述金屬貼片的尺寸和所述金屬貼片之間的間隔是根據在該晶格處所需的相位和能量特性來確定的。

8.如權利要求5所述的超材料平板，其特征在于，所述晶格是長方體晶格。

9.如權利要求8所述的超材料平板，其特征在于，所述晶格的上晶面和下晶面是正方形晶面，且所述上晶面上形成有一個金屬微結構，所述下晶面上形成有四個正方形金屬貼片。

10.一種低副瓣超材料平板天線，包括：輻射體，以及如權利要求1-9中的任一項所述的超材料平板，其中所述超材料平板的形成有所述金屬微結構的表面被設置成面向所述輻射體的輻射方向。

11.一種制造超材料平板的方法，包括：

提供基板；

在所述基板的上表面上形成金屬微結構；以及

在所述基板的下表面上形成多個金屬貼片，其中所述多個金屬貼片彼此間隔設置。

12.如權利要求11所述的方法，其特征在于，所述基板由上、下兩層基板構成，并且其中所述方法還包括使用紙蜂窩將上層基板和下層基板粘合在一起，并且其中所述金屬微結構被形成在上層基板的上表面上且所述金屬貼片被形成在下層基板的下表面上。