[發(fā)明專利]一種無襯底PbS/CH3NH3PbX3核殼納米材料的制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610198297.6 | 申請日: | 2016-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN105845827B | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 利明;袁小親;阮浩然;鄧曉寧 | 申請(專利權(quán))人: | 桂林理工大學(xué) |
| 主分類號: | H01L51/46 | 分類號: | H01L51/46;H01L51/42;C01G21/21;B82Y30/00 |
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| 地址: | 541004 廣*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 襯底 pbs ch sub nh pbx 納米 材料 制備 方法 | ||
【說明書】:
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H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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