[發(fā)明專利]衍射光柵的制造方法、衍射效率計算方法及衍射光柵

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610197450.3
• 申請日: 2016-03-31
• 公開（公告）號: CN107290812A
• 公開（公告）日: 2017-10-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 浮田龍一
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18;G01M11/02
• 代理公司: 北京中原華和知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司11019
• 代理人: 壽寧,張華輝

1.一種衍射光柵的制造方法，其特征在于包括:

抗蝕劑涂布工序，在基板的表面涂布抗蝕劑；

曝光工序，通過從兩個方向?qū)ν坎加兴隹刮g劑的所述基板的表面進行曝光而產(chǎn)生干涉條紋，在所述基板的表面形成對應(yīng)于所述干涉條紋的抗蝕劑圖案；

蝕刻工序，通過對所述抗蝕劑圖案進行蝕刻，在所述基板的表面形成對應(yīng)于所述抗蝕劑圖案的衍射光柵槽；以及

掩模工序，在所述抗蝕劑涂布工序與所述曝光工序之間、或所述曝光工序與所述蝕刻工序之間，對所述抗蝕劑的表面的一部分施加掩模，

其中，通過所述蝕刻工序獲得衍射光柵，所述衍射光柵在未施加所述掩模的區(qū)域中形成有所述衍射光柵槽，在施加了所述掩模的區(qū)域中未形成所述衍射光柵槽。

2.一種衍射效率計算方法，其特征在于包括：

準備工序，準備衍射光柵，在所述衍射光柵的表面包括：形成有衍射光柵槽的區(qū)域、及未形成所述衍射光柵槽的區(qū)域；

第一測定工序，將光照射至所述衍射光柵中的形成有所述衍射光柵槽的第一區(qū)域，測定來自所述第一區(qū)域的第一反射光的光接收強度；

第二測定工序，將光照射至所述衍射光柵中的未形成所述衍射光柵槽的第二區(qū)域，測定來自所述第二區(qū)域的第二反射光的光接收強度；以及

運算工序，基于在所述第一測定工序中測定出的所述第一反射光的光接收強度及所述第二測定工序中測定出的所述第二反射光的光接收強度，來計算出衍射效率。

3.一種衍射光柵，其特征在于包括：

基板，在所述基板的表面形成有衍射光柵槽區(qū)域與鏡子區(qū)域，

所述衍射光柵槽區(qū)域形成有通過反射入射光而使所述入射光分散成各波長的光的衍射光柵槽，

所述鏡子區(qū)域反射入射光而不會使所述入射光分散。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的衍射光柵，其特征在于：

所述鏡子區(qū)域包含平坦的反射面。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的衍射光柵，其特征在于：

所述鏡子區(qū)域為小于所述衍射光柵槽區(qū)域的區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的衍射光柵，其特征在于：

所述鏡子區(qū)域形成在所述基板的至少一個角部。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的衍射光柵，其特征在于：

在所述衍射光柵槽區(qū)域的平面上，形成有所述衍射光柵槽。

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的衍射光柵，其特征在于：

所述基板的整個表面由金屬薄膜覆蓋。