[發明專利]一種金屬有機化學氣相沉積設備反應腔體結構在審
| 申請號: | 201610191908.4 | 申請日: | 2016-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN105695955A | 公開(公告)日: | 2016-06-22 |
| 發明(設計)人: | 鄧耀華;傅雅琦;陳嘉源;吳黎明;張巧芬 | 申請(專利權)人: | 廣東工業大學 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/458;C23C16/34 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 林麗明 |
| 地址: | 510006 廣東省廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金屬 有機化學 沉積 設備 反應 結構 | ||
1.一種金屬有機化學氣相沉積設備反應腔體結構一種金屬有機化學氣相沉積設備,其 特征在于包括用于外延片生長的襯底承載盤(1)、進氣裝置(2)、出氣裝置(3),襯底承載盤 (1)存放在殼體(4)所設的密封腔體內,襯底承載盤(1)通過支撐桿直立支撐,進氣裝置(2) 裝設在密封腔體頂部,出氣裝置(3)裝設密封腔體底部。
2.根據權利要求1所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述襯底承載盤(1) 包括設置的圓形反應槽(11)、載盤基體(12)、槽口(13),其中圓形反應槽(11)設置在載盤基 體(12)的上部,槽口(13)設置在載盤基體(12)的底部,支撐桿的上端插裝在槽口(13)上,支 撐桿的上端與槽口(13)完全耦合。
3.根據權利要求2所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述圓形反應槽 (11)有54個,載盤基體(12)直徑范圍是67-560mm,載盤基體(12)的材料為石墨并包裹碳化 硅層。
4.根據權利要求2所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述槽口(13)的幾 何中心與載盤基體(12)的幾何中心重合。
5.根據權利要求2至4任一項所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述圓形 反應槽(11)的截面為梯形,槽口(13)的截面為梯形。
6.根據權利要求5所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述進氣裝置(2)包 括有進氣管(21)、氣體流量計(22)、進氣嘴(23),進氣嘴(23)安裝在殼體(4)的頂蓋,且進氣 嘴(23)穿過殼體(4)的頂蓋與殼體(4)所設的密封腔體相通,通入反應氣體;所述進氣管 (21)與所述進氣嘴(23)連接,輸入反應氣體;所述氣體流量計(22)套裝于所述進氣管(21) 上,用于監測氣體流速。
7.根據權利要求5所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述出氣裝置(3)包 括出氣管(31)、出氣閥(32),其中出氣管(31)安裝于殼體(4)的底部,且出氣管(31)的一端 穿過殼體(4)的底部與殼體(4)所設的密封腔體相通,出氣管(31)的另一端與外部接通,用 于排除廢氣;所述出氣管(32)安裝于所述出氣管(31)上,控制密封腔體內部氣壓。
8.根據權利要求7所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述出氣管(31)上 還裝設有氣體壓力計(33),氣體壓力計(33)監測氣體壓力。
9.根據權利要求7所述的金屬有機化學氣相沉積設備,其特征在于上述出氣閥(32)是 蝶閥。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





