[發明專利]一種屏幕保護膜及其制作方法

有效

• 申請號: 201610191830.6
• 申請日: 2016-03-30
• 公開（公告）號: CN107283955B
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 劉慶平;唐鵬飛
• 申請（專利權）人: 新科實業有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B27/30;B32B37/02;B32B38/16
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫

本發明公開了一種屏幕保護膜，包括基材、形成在所述基材上的AR膜、形成在所述AR膜上的金屬氧化膜、形成在所述金屬氧化膜上的AF膜。本發明實施例的屏幕保護膜既有良好的耐磨性又有較高的透光率，而且還能兼顧疏水疏油及防指紋的效果。本發明還公開了一種屏幕保護膜的制作方法。

技術領域

本發明涉及薄膜材料領域，尤其涉及一種屏幕保護膜及其制作方法。

背景技術

手機，平板等設備的觸控屏幕本身材質(例如玻璃)硬度偏低，在日常的使用和攜帶過程中，很容易被環境中的沙礫或鑰匙等硬質物刮傷磨損，從而留下劃痕甚至失效。此外，在頻繁的觸控使用中，使用者皮膚上的油脂和指紋很容易殘留在觸控屏表面上，影響屏幕的視覺清晰度和畫面效果。

目前，在觸控屏幕表面覆蓋一層耐磨性防指紋膜來提高硬度、防刮耐磨或疏水疏油的技術已有應用。

例如，美國專利No.5,637,353公開了一種在玻璃基材表面沉積DLC膜的方法，其使用化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition,CVD)制備的DLC膜具有較好的耐磨性，然而，疏水性一般，而且，由于膜較厚也影響了透光率。美國專利No.6,280,834公開了一種在汽車玻璃基材表面使用離子束沉積-化學氣相沉積法(Ion Beam Deposition,ChemicalVapor Deposition,IBD-CVD)制備DLC膜的方法，其使用C₂H₂氣體作為離子源，使用IBD方法沉積DLC，制備的DLC膜含有較多的氫，獲得的高硬度SP³鍵的四面體非晶碳膜(ta-C)結構比例不高，硬度只有10-30Gpa，不能起到很好的防刮耐磨性。

因此，目前采用傳統方法制備的高耐磨性防指紋膜，很難同時滿足高耐磨性，高透光率，防指紋及防反射特性要求。

發明內容

本發明實施例的目的是提供一種屏幕保護膜及其制作方法，能有效同時提高屏幕保護膜的耐磨性、透光率、防指紋及防反射的性能。

本發明實施例提供了一種屏幕保護膜，包括：

一基材；

形成在所述基材上的AR膜；

形成在所述AR膜上的金屬氧化膜；

形成在所述金屬氧化膜上的AF膜。

作為上述方案的改進，所述屏幕保護膜還包括：形成在所述金屬氧化膜表面的納米點陣圖案。

作為上述方案的改進，所述納米點陣圖案采用納米壓印或光刻技術制成。

作為上述方案的改進，所述納米點陣圖案的深度為5納米，間距為2微米。

作為上述方案的改進，所述AR膜為兩層或多層結構。

作為上述方案的改進，所述AR膜為兩層結構時，由下往上的第一層為高折射率材質層，第二層為低折射率材質層；所述高折射率材質層為氧化鋯、氧化鈦或氧化鋁；所述低折射率材質層為氧化硅或氮化硅。

作為上述方案的改進，所述基材為觸控屏幕類介質，包括玻璃或藍寶石。

作為上述方案的改進，所述金屬氧化膜的材料為ZrOx、TaOx、HfOx、YOx或AlOx。

作為上述方案的改進，所述金屬氧化膜厚度為10埃～200埃。

本發明實施例還公開了一種屏幕保護膜的制作方法，包括步驟：

S1、提供一基材；

S2、在所述基材上形成一AR膜；

S3、在所述AR膜上形成一金屬氧化膜；

S4、在所述金屬氧化膜上形成一AF膜。