[發(fā)明專利]晶體管裝置及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610191444.7 | 申請(qǐng)日: | 2016-03-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106024890A | 公開(kāi)(公告)日: | 2016-10-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹慶;程慷果;李正文;劉菲;章貞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/78 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 邱軍;趙國(guó)榮 |
| 地址: | 美國(guó)紐*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶體管 裝置 及其 制造 方法 | ||
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- 同類(lèi)專利
- 專利分類(lèi)
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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