[發(fā)明專利]基于圖像灰度處理的數(shù)據(jù)計算方法及其在檢測領(lǐng)域的應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610188525.1 | 申請日: | 2016-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN105606608B | 公開(公告)日: | 2018-12-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 苗季;陳銘均;孟志華;熊曉明 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州博厚醫(yī)療技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/84 | 分類號: | G01N21/84;G01N33/52;G06T7/11;G06T7/187;G06T7/30;G06T5/00;G06K7/14 |
| 代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 林青中;萬志香 |
| 地址: | 510663 廣東省廣州市廣州高*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 圖像 灰度 處理 數(shù)據(jù) 計算方法 及其 檢測 領(lǐng)域 應(yīng)用 | ||
1.一種基于圖像灰度處理的數(shù)據(jù)計算方法,其特征在于,包括如下步驟:
(1)通過檢測設(shè)備內(nèi)部的攝像元件獲取試紙卡圖像;
(2)對所述試紙卡圖像進行預(yù)處理,獲取預(yù)處理圖像,所述預(yù)處理包括對所述試紙卡套的圖像位置進行截取,再對所述試紙條的圖像位置進行截取;
(3)通過模板匹配測量相似度算法對所述預(yù)處理圖像上的所述試紙條的圖像進行精準(zhǔn)定位,得到感興趣區(qū)域圖像;
(4)將所述感興趣區(qū)域圖像轉(zhuǎn)化為單一的試紙條灰度變化曲線;
(5)對所述試紙條灰度變化曲線進行曲線擬合校正,根據(jù)校正后的試紙條灰度變化曲線進行參考帶的邊界位置定位和目標(biāo)帶的邊界位置定位,根據(jù)定位的區(qū)域分別計算所述參考帶對應(yīng)的面積和所述目標(biāo)帶對應(yīng)的面積,得到參考帶響應(yīng)值C和目標(biāo)帶響應(yīng)值T;
(6)根據(jù)所述目標(biāo)帶響應(yīng)值T與所述參考帶響應(yīng)值C之間的T/C比值來判斷免疫反應(yīng)是陰性或者陽性;或根據(jù)T/C比值得出樣品的濃度值;步驟(6)中的定性檢測或者定量檢測包括如下步驟:
1)軟件讀取所述試紙卡上的二維碼卡片的信息,來獲得本次檢測樣品的項目信息,將獲得的所述項目信息與存儲的標(biāo)準(zhǔn)項目信息比對,判定所述檢測樣品的檢測類型為定性檢測或者定量檢測;
2)對于定性檢測,會根據(jù)T/C的比值判定其陰陽性,其中,T為所述目標(biāo)帶的響應(yīng)值,C為所述參考帶的響應(yīng)值;
3)對于定量檢測,根據(jù)所述檢測標(biāo)準(zhǔn)品的項目信息配置不同梯度濃度的標(biāo)準(zhǔn)品稀釋液,計算不同梯度濃度對應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)T/C值,得到標(biāo)準(zhǔn)T/C值與不同梯度濃度對應(yīng)的擬合曲線,將檢測項目所對應(yīng)的曲線公式存儲在軟件當(dāng)中;用戶進行定量檢測時,軟件讀取T帶和C帶的響應(yīng)值得到T/C值,根據(jù)該定量檢測項目的檢測類型讀取與之對應(yīng)的曲線公式,并根據(jù)該曲線公式將T/C值換算成該檢測項目的濃度值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于圖像灰度處理的數(shù)據(jù)計算方法,其特征在于,步驟(2)中的所述預(yù)處理是根據(jù)所述試紙條的圖像與所述試紙卡套的圖像的比值關(guān)系,來切割截取涵蓋有所述試紙條區(qū)域的圖像,以得到所述預(yù)處理圖像,其中所述切割截取公式如下:
X=(width/10)*4,Y=(height/9)*3,W=(width/10)*5,H=(height/9)*3;其中,X為所述切割截取開始時的橫坐標(biāo),Y為所述切割截取開始時的縱坐標(biāo),W為所述預(yù)處理圖像的長度,H為所述預(yù)處理圖像的寬度;width為所述試紙卡圖像長度,height為所述試紙卡圖像寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于圖像灰度處理的數(shù)據(jù)計算方法,其特征在于,步驟(3)包括如下步驟:
通過模板匹配測量相似度算法對所述預(yù)處理圖像上的所述試紙條的圖像進行精準(zhǔn)定位,是根據(jù)預(yù)先存儲的試紙條匹配模板圖像對所述預(yù)處理圖像上的所述試紙條的圖像進行模板匹配,所述模板匹配測量相似度公式如下:
其中:m、n為所述模板圖像上的像素數(shù)量,Sij稱為其中一個子圖,子圖Sij表示模板圖像覆蓋被搜索圖(預(yù)處理圖像)的區(qū)域,i,j為所述子圖Sij左上角在被搜索圖S上的坐標(biāo)。
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G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
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G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
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