[發明專利]流體檢測裝置

在審

• 申請號: 201610186901.3
• 申請日: 2016-03-29
• 公開（公告）號: CN107238573A
• 公開（公告）日: 2017-10-10
• 發明（設計）人: 何思賢;魏嘉俊;陳宏維
• 申請（專利權）人: 光寶電子（廣州）有限公司;光寶科技股份有限公司
• 主分類號: G01N21/05
• 分類號: G01N21/05
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司72003
• 代理人: 李昕巍,鄭泰強

1.一種流體檢測裝置，包括：

至少一流道，包括一流道頂面和一流道底面，該流道頂面和該流道底面間具有一第一間距；

至少一槽室，與該至少一流道相連通，使一流體由該至少一流道流入該至少一槽室，并包括一槽室頂面、一槽室底面以及一流體充滿區，至少有一部份的該流體充滿區的該槽室頂面與對應的該槽室底面具有一第二間距，其中該第二間距小于該第一間距；以及

一通口，與該至少一槽室和外界連通。

2.如權利要求1所述的流體檢測裝置，其中在該流體充滿區周圍的該槽室頂面或/和該槽室底面形成一面，該面與該槽室頂面或/和該槽室底面之間形成一段差。

3.如權利要求2所述的流體檢測裝置，其中該槽室還包括一側壁，連接至少該槽室頂面和該槽室底面之一，該側壁與該流體充滿區的周圍有一間隔。

4.如權利要求1-3中的任一項所述的流體檢測裝置，其中至少有一部份的該流體充滿區的該槽室頂面與對應的該槽室底面兩者或之一具有一拋物球面。

5.一種流體檢測裝置，包括：

一試片本體，包括：

多個流道，各流道包括一流道頂面和一流道底面，該流道頂面和該流道底面間具有一第一間距；

多個槽室，與各對應的該多個流道相連通，使一流體由該等流道流入對應的該槽室，各槽室包括一槽室頂面、一槽室底面以及一流體充滿區，至少有一部份的該流體充滿區的該槽室頂面與對應的該槽室底面具有一第二間距，其中該第二間距小于該第一間距；以及

至少一個通口，與該多個槽室和外界連通。

6.如權利要求5所述的流體檢測裝置，其中各槽室在該流體充滿區周圍的該槽室頂面或/和該槽室底面形成一面，該面與該槽室頂面或/和該槽室底 面之間形成一段差。

7.如權利要求6所述的流體檢測裝置，其中各槽室還包括一側壁，連接至少該槽室頂面和該槽室底面之一，該側壁與該流體充滿區的周圍有一間隔。

8.如權利要求7所述的流體檢測裝置，其中各槽室至少有一部份的該流體充滿區的該槽室頂面與對應的該槽室底面兩者或之一具有一拋物球面。

9.如權利要求5-8中的任一項所述的流體檢測裝置，其中該試片本體還包括一流體容納槽，設置于該試片本體的一端，用以置入該流體并與該多個流道相連通，該多個流道呈放射狀排列設置，該多個槽室呈直線排列設置于該試片本體的另一端，其中該多個流道中長度較短的流道具有較小的寬度以及長度較長的流道具有較大的寬度，以使該流體置入該流體容納槽后經由各流道同時到達對應的各槽室。

10.如權利要求9的所述的流體檢測裝置，其中該試片本體具有一第一片體和一第二片體，該第一片體及該第二片體位于該試片本體相對的兩面，該多個流道和該多個槽室設置在該第一片體及該第二片體之間，該至少一個通口包括多個通口，設置在并連通于各對應的該多個槽室，其中：

該第一片體，包括多個槽室頂部及多個流道頂部，該多個槽室頂部分別與對應的該多個流道頂部之一相連接，各槽室頂部具有該槽室頂面并包括一第一流體充滿形成件及一第一凹槽，該第一流體充滿形成件從該第一片體中該流道頂部末端延伸形成并被第一凹槽環繞；以及

該第二片體，包括多個槽室底部及多個流道底部，該多個槽室底部分別與對應的該多個流道底部之一相連接，各槽室底部具有該槽室底面，

其中，各槽室頂部與各槽室底部形成各槽室，各流道頂部與各流道底部形成各流道，該第一流體充滿形成件及對應的該槽室底部形成該流體充滿區。

11.如權利要求10所述的流體檢測裝置，其中該第一凹槽凹設在該第一片體的內面并形成該側壁與該流體充滿區的周圍的間隔，且該第一凹槽的壁與在該流體充滿區周圍的該槽室頂面之間形成一段差。

12.如權利要求11所述的流體檢測裝置，其中該第一流體充滿形成件包括一柄狀部及一本體，該柄狀部與該流道頂部末端相接，該拋物球面形成在 該本體的內面。

13.如權利要求11所述的流體檢測裝置，其中該通口設置在該第一凹槽上或該第一凹槽是一穿槽。