[發明專利]光刻用顯影液及抗蝕圖案形成方法有效
| 申請號： | 201610186764.3 | 申請日： | 2016-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN106019862B | 公開（公告）日： | 2021-02-05 |
| 發明（設計）人： | 千坂博樹;野田國宏;三隅浩一;鹽田大 | 申請（專利權）人： | 東京應化工業株式會社 |
| 主分類號： | G03F7/32 | 分類號： | G03F7/32;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律師事務所 11256 | 代理人： | 楊宏軍;牛蔚然 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 顯影液 圖案 形成 方法 | ||
【說明書】：
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