[發明專利]用于探測器的線圈結構及其構成的通過式探測器在審
| 申請號: | 201610184330.X | 申請日: | 2016-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN105702442A | 公開(公告)日: | 2016-06-22 |
| 發明(設計)人: | 陳英杰;王積東;王孝洪 | 申請(專利權)人: | 東莞市華盾電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01F38/14 | 分類號: | H01F38/14;H01F27/30;G01V3/10 |
| 代理公司: | 廣州市一新專利商標事務所有限公司 44220 | 代理人: | 王德祥 |
| 地址: | 523000 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 探測器 線圈 結構 及其 構成 通過 | ||
技術領域
本發明涉及金屬探測器領域,具體而言涉及用于探測器的線圈結構及其構成的通過式探測器。
背景技術
探測器廣泛使用在各個領域。在車站、機場、娛樂場所等地方,都會安裝探測器。探測器以非接觸的方式檢測人身上的金屬物品。例如,通過式探測器是其中一種探測器,通過式探測器內部裝有發射線圈和接收線圈。當有金屬靠近探測器時候,金屬產生的渦流效應會影響通過式探測器周圍的磁場,這時接收線圈會產生感應電流,電壓隨之改變。通過檢測接收線圈的電壓改變,可以進一步作出判斷。
請參考圖1,圖1是本發明用于探測器的線圈結構中現有技術的示意圖。現有技術中,探測器的線圈包括發射線圈101、接收線圈102,探測器主體結構103。每個線圈都由漆包線繞成,最后線圈的兩個抽頭連接到各自的接線端子上。線圈生產調試方法是用發射線圈101的部分作為抵消繞線104,如圖中箭頭所示,實線箭頭表示接收線圈102的繞線方向,虛線箭頭表示抵消繞線104的繞線方向,兩者繞線方向相反。通過調節抵消繞線104面積從而調整接收線圈102的感應電壓的幅值,使其滿足模擬電路電平要求。這種方法需要工人在多次不斷調整抵消繞線104部分,并同時測試在此狀態下的感應電壓幅值,而抵消繞線部分可調整的空間又很大,因此造成生產效率低下。在另一方面,探測器由于在設計上只有單向的接收線圈,在實際操作時候容易受到外界的干擾,容易造成誤判。因此需要一種新的用于探測器的線圈結構,以提高生產探測器的效率,易于工人進行安裝調試和提高探測器的抗干擾能力。
發明內容
本發明的任務是提供一種新的用于探測器的線圈結構及其構成的探測器,以提高生產探測器的效率,易于工人進行安裝調試和提高探測器的抗干擾能力。為實現上述目的,本專利采用如下技術方案:
一種用于探測器的線圈結構,其特征在于:所述線圈結構包括第一線圈、第二線圈,第一線圈和第二線圈以電磁耦合方式連接,其中第一線圈包括正向線圈和反向線圈,正向線圈與反向線圈反向連接。
優選的,所述正向線圈與反向線圈是相同的匝數和相同的大小。
優選的,所述正向線圈與反向線圈不相交。
優選的,所述正向線圈與反向線圈對稱設置。
優選的,所述第一線圈至少設有兩個,同一個第一線圈的正向線圈與反向線圈之間設有另一個第一線圈的正向線圈或者反向線圈。
優選的,所述第一線圈是發射線圈,第二線圈是接收線圈。
優選的,所述第一線圈是接收線圈,第二線圈是發射線圈。
另一方面,提供一種通過式探測器,包括主體結構和設置在其內部的主機,主機連接有用于探測器的線圈結構,其特征在于:所述用于探測器的線圈結構包括第一線圈、第二線圈,第一線圈和第二線圈以電磁耦合方式連接,其中第一線圈包括正向線圈和反向線圈,正向線圈與反向線圈反向連接;第一線圈和第二線圈設置在主體結構的側門部分。
優選的,所述正向線圈與反向線圈是相同的匝數和相同的大小。
優選的,所述正向線圈與反向線圈不相交。
優選的,所述正向線圈與反向線圈對稱設置。
優選的,所述側門部分中至少設有兩個第一線圈,同一個第一線圈的正向線圈與反向線圈之間設有另一個第一線圈的正向線圈或者反向線圈。優選的,所述第一線圈是發射線圈,第二線圈是接收線圈。
優選的,所述第一線圈是接收線圈,第二線圈是發射線圈。
經實驗證實,使用本發明用于探測器的線圈結構及其構成的通過式探測器,可以有效解決安裝調試探測器效率低下和易受干擾的問題。
附圖說明
圖1是本發明用于探測器的線圈結構中現有技術的示意圖;
圖2是本發明通過式探測器的結構示意圖;
圖3是本發明用于探測器的線圈結構第一實施例的示意圖;
圖4是本發明用于探測器的線圈結構中的第一線圈的一個實施例結構示意圖;
圖5是本發明用于探測器的線圈結構第二實施例的示意圖;
圖6是本發明用于探測器的線圈結構第三實施例的示意圖;
圖7是本發明用于探測器的線圈結構第四實施例的示意圖;
圖8a是本發明用于探測器的線圈結構第五實施例的示意圖;
圖8b是本發明用于探測器的線圈結構第六實施例的示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施方式對本發明作進一步說明,但是本發明的保護范圍并不局限于實施方式表述的范圍。
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