[發(fā)明專利]一種熱等靜壓氧化鈮靶材的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610183421.1
• 申請日: 2016-03-28
• 公開（公告）號: CN105734506B
• 公開（公告）日: 2019-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔子振;謝飛;石剛;黃國基;趙鵬飛
• 申請（專利權(quán)）人: 航天材料及工藝研究所;中國運(yùn)載火箭技術(shù)研究院
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C04B35/495;C04B35/645
• 代理公司: 中國航天科技專利中心 11009
• 代理人: 褚鵬蛟

1.一種熱等靜壓氧化鈮靶材的制備方法，其特征在于：以高純度的五氧化二鈮粉末為原料，所述五氧化二鈮粉末經(jīng)過造粒預(yù)處理后裝入包套，對五氧化二鈮粉末采用冷等靜壓壓實(shí)后再破碎的方法進(jìn)行造粒，其中冷等靜壓的壓制壓力為150～300MPa，保壓時間為20～60min，最后過篩得到-100～+250目的五氧化二鈮粉末，然后對裝粉后的包套進(jìn)行真空熱除氣處理，再通過熱等靜壓工藝壓制成形，最后通過機(jī)械加工去除包套后制成成品，所述真空熱除氣處理的最終除氣溫度為700～1000℃，最終真空度大于1×10^-3Pa，并在該最終除氣溫度和最終真空度基礎(chǔ)上保溫30～300min，將真空熱除氣處理后的包套進(jìn)行熱等靜壓處理，熱等靜壓工藝為溫度900～1150℃，壓力80～150MPa，保溫時間1～5h。

2.如權(quán)利要求1所述的熱等靜壓氧化鈮靶材的制備方法，其特征在于：所述高純度的五氧化二鈮靶材粉末為純度大于99.99％的五氧化二鈮粉末。

3.如權(quán)利要求1所述的熱等靜壓氧化鈮靶材的制備方法，其特征在于：所述包套的材料選自45#碳鋼、304不銹鋼或TA1純鈦。

4.如權(quán)利要求1所述的熱等靜壓氧化鈮靶材的制備方法，其特征在于：在所述真空熱除氣處理的同時對所述五氧化二鈮粉末進(jìn)行失氧處理，失氧量為所述五氧化二鈮粉末中總氧含量的3～5wt％。