[發明專利]一種粘貼保護膜時的處理系統和方法有效
| 申請號： | 201610182372.X | 申請日： | 2016-03-28 |
| 公開（公告）號： | CN107234803B | 公開（公告）日： | 2019-08-30 |
| 發明（設計）人： | 王立紅 | 申請（專利權）人： | 努比亞技術有限公司 |
| 主分類號： | B29C63/02 | 分類號： | B29C63/02 |
| 代理公司： | 深圳協成知識產權代理事務所(普通合伙) 44458 | 代理人： | 章小燕 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市南山區高新區北環大道9018*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 粘貼 保護膜 處理 系統 方法 | ||
1.一種粘貼保護膜時的處理系統，其特征在于，所述系統包括：確定模塊、設置模塊和等離子處理模塊；
所述確定模塊，用于確定產品人機界面上的弧形區域；
所述設置模塊，用于設置對所述弧形區域的處理路徑；
所述等離子處理模塊，用于控制預設的直噴噴嘴沿設置好的處理路徑對所述弧形區域進行低溫等離子處理。
2.如權利要求1所述的處理系統，其特征在于，所述確定模塊確定所述產品的人機界面上的弧形區域包括：檢測所述人機界面上預定區域的彎曲度，將所述預定區域上彎曲度大于或等于預設的彎曲閾值的區域確定為所述弧形區域。
3.如權利要求1所述的處理系統，其特征在于，所述設置模塊設置對所述弧形區域的處理路徑包括：
確定所述弧形區域在預設的第一高度處的矩形投影；
確定所述矩形投影的縱向中線；
以所述縱向中線的一端為起點，另一端為終點，將沿所述縱向中線從所述起點到所述終點之間的路徑確定為處理路徑。
4.如權利要求1所述的處理系統，其特征在于，
所述直噴噴嘴對所述弧形區域進行低溫等離子處理時的氣壓范圍為a～bMpa，所述直噴噴嘴的直徑小于等于預設的直徑閾值；其中，0≤a≤1，0≤b≤1，且a≤b。
5.如權利要求4所述的處理系統，其特征在于，
所述a～bMpa為0.2～1.0Mpa；
所述直徑閾值為1～6mm；
所述第一高度的取值范圍為5～20mm。
6.一種粘貼保護膜時的處理方法，其特征在于，所述方法包括步驟：
確定產品人機界面上的弧形區域；
設置對所述弧形區域的處理路徑；
控制預設的直噴噴嘴沿設置好的處理路徑對所述弧形區域進行低溫等離 子處理。
7.如權利要求6所述的處理方法，其特征在于，所述確定所述產品的人機界面上的弧形區域包括：檢測所述人機界面上預定區域的彎曲度，將所述預定區域上彎曲度大于或等于預設的彎曲閾值的區域確定為所述弧形區域。
8.如權利要求6所述的處理方法，其特征在于，所述設置對所述弧形區域的處理路徑包括：
確定所述弧形區域在預設的第一高度處的矩形投影；
確定所述矩形投影的縱向中線；
以所述縱向中線的一端為起點，另一端為終點，將沿所述縱向中線從所述起點到所述終點之間的路徑確定為處理路徑。
9.如權利要求6所述的處理方法，其特征在于，所述方法還包括：
所述直噴噴嘴對所述弧形區域進行低溫等離子處理時的氣壓范圍為a～bMpa，所述直噴噴嘴的直徑小于等于預設的直徑閾值；其中，0≤a≤1，0≤b≤1，且a≤b。
10.如權利要求9所述的處理方法，其特征在于，
所述a～bMpa為0.2～1.0Mpa；
所述直徑閾值為1～6mm；
所述第一高度的取值范圍為5～20mm。
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