[發明專利]投影系統以及投影畫面的校正方法

有效

• 申請號: 201610181828.0
• 申請日: 2016-03-28
• 公開（公告）號: CN107238996B
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 賴桂欽;陳治宸
• 申請（專利權）人: 中強光電股份有限公司
• 主分類號: G03B21/14
• 分類號: G03B21/14;H04N9/31
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 王永建

1.一種投影系統，其特征在于，所述投影系統包括：一投影目標以及一投影裝置；

所述投影目標包括一參考圖案并且接收一影像光束，以配合所述影像光束顯示一投影畫面；以及

所述投影裝置將所述影像光束投影至所述投影目標，一影像擷取裝置擷取具有所述投影畫面的一擷取影像，并輸出所述擷取影像至所述投影裝置，所述投影裝置依據所述擷取影像中的所述投影畫面來調整所述影像光束的投影參數，其中基于調整后的投影參數，所述影像光束顯示校正后的所述投影畫面對應所述參考圖案，以校正所述投影系統。

2.如權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述投影裝置包括所述影像擷取裝置，以及所述影像擷取裝置設置在所述投影裝置的內部或其表面。

3.如權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述投影裝置不包括所述影像擷取裝置，以及所述影像擷取裝置獨立設置在所述投影裝置之外。

4.如權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述投影裝置依據所述投影目標的所述參考圖案來調整所述影像光束的投影參數。

5.如權利要求4所述的投影系統，其特征在于，所述投影目標還包括一立體特征，所述參考圖案不包括所述立體特征。

6.如權利要求5所述的投影系統，其特征在于，所述參考圖案不同于所述立體特征的圖案。

7.如權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述投影裝置包括：

一投影元件，將所述影像光束投影至所述投影目標；以及

一處理元件，電連接至所述投影元件，依據一影像分析方法來分析所述擷取影像中的所述投影畫面，并且依據分析結果來調整所述影像光束的投影參數。

8.如權利要求7所述的投影系統，其特征在于，所述處理元件利用一影像識別引擎來分析所述影像光束投影至所述投影目標的位置以及所述投影目標的所述參考圖案，以取得所述擷取影像中所述投影畫面的所述位置及所述參考圖案的一坐標信息。

9.如權利要求8所述的投影系統，其特征在于，所述處理元件利用一影像校正引擎將所述影像光束投影至所述投影目標上，使所述投影畫面調整至對應所述參考圖案的所述坐標信息，以讓所述影像光束顯示校正后的所述投影畫面對應所述投影目標的所述參考圖案。

10.如權利要求8所述的投影系統，其特征在于，所述處理元件利用一影像校正引擎將所述影像光束投影至所述投影目標上，使所述投影畫面調整至對應所述參考圖案的所述坐標信息以及所述投影目標的一立體特征的位置，使得所述影像光束顯示校正后的所述投影畫面對應所述參考圖案與所述立體特征。

11.如權利要求1所述的投影系統，其特征在于，所述投影參數包括所述影像光束投影至所述投影目標的位置以及所述投影裝置的對焦位置兩者至少其中之一。

12.如權利要求11所述的投影系統，其特征在于，通過分析所述擷取影像上所述參考圖案的顏色、形狀、定位點間距獲得所述投影裝置的所述對焦位置。

13.如權利要求10所述的投影系統，其特征在于，所述投影參數包括所述影像光束投影至所述投影目標的位置以及所述投影裝置的對焦位置兩者至少其中之一，通過分析所述擷取影像上所述立體特征的顏色、形狀、特征間距獲得所述投影裝置的所述對焦位置。