[發明專利]顯示面板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 201610179793.7
• 申請日: 2016-03-25
• 公開（公告）號: CN105629587A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發明（設計）人: 范宇光;李京鵬;李建;覃一鋒;李偉
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 羅瑞芝;陳源

技術領域

本發明屬于顯示技術領域，具體涉及一種顯示面板的制備方 法以及采用該方法制備的顯示面板和顯示裝置。

背景技術

目前，液晶顯示屏是使用最廣泛的顯示屏之一。液晶顯示屏 包括對盒設置的陣列基板和彩膜基板，以及位于陣列基板與彩膜 基板之間的液晶層。陣列基板的顯示區設置有多個薄膜晶體管， 薄膜晶體管相應連接控制電極，通過控制電極引入掃描信號和數 據信號，以實現液晶偏轉的控制，實現光的透過與否和透過量的 控制；為控制電極引入信號的控制電路通常設置于陣列基板的非 顯示區。

同時，為了實現液晶初始角度的錨定，彩膜基板和陣列基板 的顯示區均分別設置取向層。其中，現有技術中制備陣列基板的 取向層的方法，通常先在基板的顯示區涂覆聚酰亞胺材料，然后 采用棉布或纖維布對涂覆的聚酰亞胺材料進行取向，從而形成取 向層。發明人發現現有技術中至少存在如下問題：

為保證控制電路區域的裸露，通常僅在陣列基板的顯示區涂 覆聚酰亞胺材料，然后通過取向工藝形成取向層。然而，由于涂 覆工藝的限制，取向材料在顯示區與非顯示區交界的區域通常會 出現缺陷，取向后容易因取向材料表面受到損傷而在周邊區域產 生明顯的摩擦痕(RubbingMura)。取向層的摩擦痕，將導致顯 示畫面出現波紋，影響顯示效果。

因此，設計一種能夠使顯示面板內的取向層具有較少摩擦痕 甚至不具有摩擦痕，從而提高顯示效果的結構或方法，這是目前 亟待解決的技術問題。

發明內容

本發明針對現有的上述的問題，提供一種顯示面板及其制備 方法和顯示裝置。其中，顯示面板的制備方法能夠使顯示面板中 最終形成的取向層具有較少甚至不具有摩擦痕，從而提高顯示效 果。

本發明為解決上述技術問題提供的技術方案為：一種顯示面 板的制備方法，包括以下步驟：

在陣列基板上方涂覆取向材料，涂覆的區域包括陣列基板的 顯示區和位于顯示區外圍的電極區；

對取向材料進行取向；

將取向后的陣列基板與取向后的彩膜基板進行對盒；

切割對盒后的陣列基板與彩膜基板，形成顯示面板單元，每 一顯示面板單元中，陣列基板的電極區未被彩膜基板覆蓋；

去除陣列基板的電極區上方覆蓋的取向材料，露出電極區。

優選的是，所述在陣列基板上方涂覆取向材料的步驟中，所 述取向材料為聚酰亞胺材料。

優選的是，所述去除陣列基板的電極區上方覆蓋的取向材料 的步驟，包括采用離子刻蝕法去除電極區上方覆蓋的取向材料， 其中：所述離子刻蝕法的工程參數包括：功率范圍：220-280W； Ar流速范圍：3-13Lpm；O₂流速范圍：0.028-0.035Lpm；處理時 長范圍：15-25Sec。

優選的是，所述離子刻蝕法的工程參數采用：功率：220W； Ar流速：7Lpm；O₂流速：0.035Lpm；處理時長：15Sec。

優選的是，所述去除陣列基板的電極區上方覆蓋的取向材料 的步驟，包括采用化學刻蝕法刻蝕電極區上方覆蓋的取向材料。

優選的是，所述采用化學刻蝕法刻蝕電極區上方覆蓋的取向 材料的步驟之前，還包括：采用封膠的方式或吸盤的方式覆蓋所 述陣列基板的顯示區。

優選的是，所述化學刻蝕法中的刻蝕溶液包含肼類物質或者 氫氧化溶液。

優選的是，所述在陣列基板上方涂覆取向材料的步驟，包括 采用凸版印刷法、噴射印刷法或絲網印刷法中任一種方法涂覆取 向材料。

優選的是，所述對取向材料進行取向的步驟，包括采用摩擦 取向工藝或光取向工藝對取向材料取向。

本發明提供的另一種技術方案：一種顯示面板，采用上述任 一種顯示面板的制備方法制備，所述陣列基板的電極區未被所述 彩膜基板覆蓋。

本發明提供的另一種技術方案：一種顯示裝置，包括上述顯 示面板。