[發明專利]半導體器件制造方法在審
| 申請號: | 201610178903.8 | 申請日: | 2016-03-25 |
| 公開(公告)號: | CN106024753A | 公開(公告)日: | 2016-10-12 |
| 發明(設計)人: | 大野榮治 | 申請(專利權)人: | 瑞薩電子株式會社 |
| 主分類號: | H01L23/50 | 分類號: | H01L23/50;H01L23/495 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 李蘭;孫志湧 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體器件 制造 方法 | ||
【說明書】:
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于瑞薩電子株式會社,未經瑞薩電子株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610178903.8/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:光照射模塊
- 下一篇:用于納米線CMOS技術的用于多柵極功函數的技術





