[發明專利]低溫裂紋釉及其制備方法在審
| 申請號： | 201610174693.5 | 申請日： | 2016-03-25 |
| 公開（公告）號： | CN105712631A | 公開（公告）日： | 2016-06-29 |
| 發明（設計）人： | 葛宜翔;何畏;孫素強 | 申請（專利權）人： | 江蘇宜翔陶瓷科技有限公司 |
| 主分類號： | C03C8/04 | 分類號： | C03C8/04;C04B41/86 |
| 代理公司： | 無錫大揚專利事務所(普通合伙) 32248 | 代理人： | 楊青 |
| 地址： | 214221 江蘇省無錫*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 低溫 裂紋 及其 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.低溫裂紋釉，其特征在于，由以下方法制備所得：
以下原料按照質量份數配比：長石75-90份、石英15-25份、重質碳酸鈣48-52份、輕質碳酸鈣15-20份、熔塊50-70份、氧化鋅25~30、碳酸銅15-20份；
熔塊包括以下成分，按照質量份數：氧化鋁0.5~1份、硼砂10~20、氧化鋅3-5份、氧化鈉2-5份，鈉長石17~21份；
上述配料與水混合后進行研磨，研磨后出筒過篩，再加水稀釋至60~65波美度制得釉漿。
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