[發(fā)明專利]高電流注入機(jī)臺(tái)監(jiān)控方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610173716.0 | 申請(qǐng)日： | 2016-03-24 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN105810613B | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-08-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 譚秀文;賴朝榮;王智;蘇俊銘 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01L21/67 | 分類號(hào)： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電流 注入 機(jī)臺(tái) 監(jiān)控 方法 | ||
【說(shuō)明書】：
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- 同類專利
- 專利分類
H01 基本電氣元件
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
- 多級(jí)校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 多級(jí)校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 一種范圍廣、力度大的校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 一種監(jiān)控的方法及系統(tǒng)
- 設(shè)備的監(jiān)控方法、裝置、系統(tǒng)和空調(diào)
- 多級(jí)校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 設(shè)備監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 風(fēng)險(xiǎn)雷達(dá)預(yù)警的監(jiān)控方法及系統(tǒng)
- 區(qū)塊鏈網(wǎng)絡(luò)監(jiān)控系統(tǒng)、裝置及方法
- 基于機(jī)器視覺(jué)的車站客流安全智能監(jiān)控系統(tǒng)
