[發明專利]可彎曲顯示基板薄膜及其制造方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201610172080.8 | 申請日: | 2016-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN105679774B | 公開(公告)日: | 2019-09-27 |
| 發明(設計)人: | 趙景罡 | 申請(專利權)人: | 大連東方科脈電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L21/762;B32B27/06;B32B17/10;B32B3/30 |
| 代理公司: | 大連東方專利代理有限責任公司 21212 | 代理人: | 楊威;李洪福 |
| 地址: | 116600 遼寧省大*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 彎曲 顯示 薄膜 及其 制造 方法 顯示裝置 | ||
1.一種可彎曲顯示基板薄膜制造方法,其特征在于所述制造方法用于制造的可彎曲顯示基板薄膜具有如下結構,
玻璃薄膜;所述玻璃薄膜上表面具有多個凸起部;
包覆所述玻璃薄膜的塑料薄膜;所述塑料薄膜下表面具有多個用于容納所述凸起部的凹陷部;
且包括如下步驟:
利用壓延法或蝕刻法成型上述的上表面具有多個凸起部的玻璃薄膜;
對成型后的玻璃薄膜進行激光切割,得到所需尺寸的玻璃薄膜;
對玻璃薄膜和塑料薄膜進行清洗干燥;
將塑料薄膜包覆到玻璃薄膜上;
利用層壓法將玻璃薄膜和塑料薄膜復合一體;進行層壓時的加熱溫度高于塑料薄膜的軟化點溫度且低于玻璃薄膜的軟化點溫度;
對與玻璃薄膜復合一體的塑料薄膜進行激光切割得到所需尺寸的邊緣部分。
2.根據權利要求1所述的可彎曲顯示基板薄膜制造方法,其特征在于多個所述凸起部在玻璃薄膜上表面橫向排列、縱向排列、或者呈陣列式排列。
3.根據權利要求2所述的可彎曲顯示基板薄膜制造方法,其特征在于當多個凸起部在玻璃薄膜上表面橫向排列或縱向排列時,在距所述玻璃薄膜邊緣的預定距離范圍內設置有所述凸起部;當多個凸起部在玻璃薄膜上表面呈陣列式排列時,在距所述玻璃薄膜邊緣的預定距離范圍內設置有邊緣凸起。
4.根據權利要求1所述的可彎曲顯示基板薄膜制造方法,其特征在于當多個凸起部在玻璃薄膜上表面橫向排列或縱向排列時,所述凸起部為半圓柱形、三棱柱形、四棱柱形、長方體形或正方體形;當多個凸起部在玻璃薄膜上表面呈陣列式排列時,所述凸起部為四棱錐形、四棱臺形、球冠形或正方體形。
5.根據權利要求1所述的可彎曲顯示基板薄膜制造方法,其特征在于所述塑料薄膜具有:與所述玻璃薄膜上表面相對設置的覆蓋部分和與所述玻璃薄膜側面相對設置的邊緣部分。
6.根據權利要求1所述的可彎曲顯示基板薄膜制造方法,其特征在于,
所述凸起部的凸起高度、以及凹陷部的凹陷深度均小于等于100μm;所述玻璃薄膜不包括凸起部的部分的厚度小于等于100μm;
所述可彎曲顯示基板薄膜還包括:
配置于玻璃薄膜下表面和/或塑料薄膜上表面的電極;
配置于玻璃薄膜下表面和/或塑料薄膜上表面的薄膜晶體管。
7.根據權利要求5所述的可彎曲顯示基板薄膜制造方法,其特征在于所述邊緣部分的寬度大于100μm;所述覆蓋部分不包括凹陷部的部分的厚度小于等于400μm;所述玻璃薄膜的表面波紋度小于等于0.5μm/20mm;所述塑料薄膜的表面粗糙度小于等于2nm。
8.一種顯示裝置,其特征在于所述顯示裝置具有權利要求1至7任一項所述的制造方法制備的可彎曲顯示基板薄膜。
9.根據權利要求8所述的顯示裝置,其特征在于所述顯示裝置為液晶顯示裝置、有機發光二極管顯示裝置或電子紙顯示裝置。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





