[發明專利]一種時空混合匹配的雙波長同時相移干涉測量方法有效
| 申請號: | 201610168731.6 | 申請日: | 2016-03-22 |
| 公開(公告)號: | CN105758295B | 公開(公告)日: | 2018-12-04 |
| 發明(設計)人: | 呂曉旭;邱翔;熊佳翔;劉勝德;鐘麗云 | 申請(專利權)人: | 華南師范大學 |
| 主分類號: | G01B9/02 | 分類號: | G01B9/02 |
| 代理公司: | 深圳市智圈知識產權代理事務所(普通合伙) 44351 | 代理人: | 韓紹君 |
| 地址: | 510631 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 時空 混合 匹配 波長 同時 相移 干涉 測量方法 | ||
1.一種時空混合匹配的同時相移雙波長干涉測量方法,其特征在于,包含以下步驟:
構造共路同時相移雙波長干涉系統,使兩不同波長的激光沿相同的路徑形成雙波長混合干涉條紋圖,通過壓電陶瓷傳感器移動產生相移量,同時使用單個黑白CCD采集N幅同時相移雙波長干涉圖;
對所述N幅干涉圖進行主成份分析,得到兩個波長下的相移量:
其中,λ1與λ2為所述共路同時相移雙波長干涉系統的兩個光源的波長且λ1>λ2,N表示總共有N幅同時相移雙波長干涉圖,和分別表示第n幅圖在λ1和λ2下對應的相移量;
然后對這兩個波長下的相移量進行矯正,包括:
對和分別進行解包裹操作,得和
若有否則若有否則
把矯正后的相移量代入最小二乘迭代算法,計算出兩個波長下的包裹相位;
將所述兩個波長的包裹相位進行相減并解包,得到合成波長下待測相位分布。
2.根據權利要求1所述的時空混合匹配的同時相移雙波長干涉測量方法,其特征在于:所述N幅同時相移雙波長干涉圖,在時域上,要求兩個波長相移量均大致均勻分布在整數個周期內,且存在兩個正整數n1和n2,使n2/n1≈λ1/λ2,n2/n1為最簡分數,所述CCD采集N幅圖后,壓電陶瓷傳感器移動的距離為pn1λ1,其中p是任意正整數,且壓電陶瓷移動步長大致是相等的,另外N>2n2p。
3.根據權利要求1所述的同時相移雙波長干涉測量方法,其特征在于:所述N幅同時相移雙波長干涉圖,在空域上,滿足每幅干涉圖中在兩個波長下均有整數個干涉條紋,即對應于波長λ1,有n1q個干涉條紋,q是任意正整數。
4.根據權利要求3所述的同時相移雙波長干涉測量方法,其特征在于,在同時相移雙波長干涉圖中所能分辨的干涉條紋數與對應于波長λ1的干涉條紋數是一致的,且空域條紋數要求可以放寬為:在同時相移雙波長干涉圖中干涉條紋數不少于n1。
5.根據權利要求1所述的同時相移雙波長干涉測量方法,其特征在于,所述合成波長相位,由兩個波長下包裹相位直接相減后,進行一次相位解包裹操作得到。
6.根據權利要求1所述的時空混合匹配的同時相移雙波長干涉測量方法,其特征在于:在不加物體時所述同時相移雙波長干涉圖的干涉條紋為直條紋,且與黑白CCD靶面橫向像素方向垂直或平行。
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