[發(fā)明專利]一種實時定量熒光監(jiān)測分子印跡過程的方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610165181.2 | 申請日： | 2016-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN105823766B | 公開（公告）日： | 2019-01-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 趙美萍;劉藝斌;翟筠秋 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京大學(xué) |
| 主分類號： | G01N21/64 | 分類號： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京君尚知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11200 | 代理人： | 董琍雯 |
| 地址： | 100871*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 實時 定量 熒光 監(jiān)測 分子 印跡 過程 方法 應(yīng)用 | ||
【權(quán)利要求書】：
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- 專利分類
G01 測量；測試
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段，即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā)，因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng)，測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
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