[發明專利]一種調控溴氧鉍暴露晶面的方法有效
| 申請號： | 201610163631.4 | 申請日： | 2016-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN105836799B | 公開（公告）日： | 2017-11-21 |
| 發明（設計）人： | 陳嶸;丁杰;楊浩;趙慧平;程剛 | 申請（專利權）人： | 武漢工程大學 |
| 主分類號： | C01G29/00 | 分類號： | C01G29/00 |
| 代理公司： | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司42102 | 代理人： | 崔友明 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 調控 溴氧鉍 暴露 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種調控溴氧鉍暴露晶面的方法，其特征在于，包括如下步驟：
1)將硝酸鉍溶解于甘露醇水溶液中，然后加入溴化鈉水溶液，進行超聲分散，得均勻的白色懸濁液；
2)將所得白色懸濁液轉入密閉的反應釜中，加熱至180～200℃恒溫反應3～24h，反應結束后，將所得產物進行離心分離、洗滌和干燥，通過調控恒溫反應時間，可以得到不同暴露晶面的溴氧鉍納米片狀材料；
所述硝酸鉍與甘露醇的摩爾比為1:(1.25～12.5)。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟2)中所述恒溫反應時間為3～6h，得主要暴露晶面為(001)面的溴氧鉍納米片狀材料。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟2)中所述恒溫反應時間為12～24h，得主要暴露晶面為(010)面的溴氧鉍納米片狀材料。
4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述硝酸鉍與溴化鈉的添加量分別以其引入的鉍離子和溴離子為準，其中鉍離子與溴離子的摩爾比為1:1。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述甘露醇水溶液的濃度為0.1～0.5mol/L。
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