[發明專利]一種用于制備N摻雜微弧氧化陶瓷層的電解液

在審

• 申請號: 201610159875.5
• 申請日: 2016-03-21
• 公開（公告）號: CN105714354A
• 公開（公告）日: 2016-06-29
• 發明（設計）人: 王紅星;白允強;毛向陽;薛亞軍;施超;王濤;譚國源
• 申請（專利權）人: 南京工程學院
• 主分類號: C25D11/06
• 分類號: C25D11/06
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 鄧麗

1.一種用于制備N摻雜微弧氧化陶瓷層的電解液，其特征在于，所述電解液組成如下：

NaOH1.0~1.5g/L

Na₂SiO₃12.0~16.0g/L

NaF0.5~1.0g/L

三乙胺10-25ml/L

溶劑為蒸餾水。

2.根據權利要求1所述的電解液，其特征在于，所述電解液組成如下：

NaOH1.2g/L

Na₂SiO₃15g/L

NaF0.7g/L

三乙胺15ml/L

溶劑為蒸餾水。

3.一種用于制備N摻雜微弧氧化陶瓷層的電解液，其特征在于，所述電解液組成如下：

KOH2.0~3.5g/L

Na₂SiO₃9.0~15g/L

三乙胺10-25ml/L

溶劑為蒸餾水。

4.根據權利要求3所述的電解液，其特征在于，所述電解液組成如下：

KOH3.0g/L

Na₂SiO₃12g/L

三乙胺18ml/L

溶劑為蒸餾水。

5.一種用于制備N摻雜微弧氧化陶瓷層的電解液，其特征在于，所述電解液組成如下：

KOH2.5-4.0g/L

Na₃PO₄30-40g/L

三乙胺10-25ml/L

NaF0.5~1.0g/L

溶劑為蒸餾水。

6.根據權利要求5所述的電解液，其特征在于，所述電解液組成如下：

KOH3.0g/L

Na₃PO₄35g/L

三乙胺15ml/L

NaF0.8g/L

溶劑為蒸餾水。

7.利用如權利要求1-6任一項所述的電解液對鋁合金表面進行微弧氧化處理的工藝，所述的工藝包括：采用雙脈沖微弧氧化設備，以鋁合金為陽極浸沒在所述的電解液中，以不銹鋼容器為陰極，控制施加正電壓為400-500V，負電壓為60-120V，在微弧氧化時，采用先恒流后恒壓的模式，恒流階段的電流密度為20-25A/dm²，時間為1~2min；微弧氧化時間為40-60min，得到表面覆蓋含氮的陶瓷層的鋁合金。