[發(fā)明專利]層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610159118.8 | 申請(qǐng)日： | 2016-03-18 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105617890A | 公開（公告）日： | 2016-06-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 黃中華;殷艷娜;孫倩玉;蔣正飛;李娜;李夢(mèng)坤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 南京理工大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | B01D71/74 | 分類號(hào)： | B01D71/74;B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00 |
| 代理公司： | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人： | 鄒偉紅;朱顯國 |
| 地址： | 210094 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 層層 組裝 聚糖 正電 復(fù)合 濾膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜，其特征在于，所述的復(fù)合納濾膜具有如 下結(jié)構(gòu)：
。
2.如權(quán)利要求1所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜，其特征在于，由如下步驟 制備：
（1）將PES超濾膜作為基膜于HTCC陽離子鑄膜液和PSS陰離子鑄膜液中交替沉積各12- 15min進(jìn)行層層自組裝，交替沉積次數(shù)為1.5-4.5，交替沉積過程中采用去離子水清洗，其 中，交替沉積時(shí)，HTCC陽離子鑄膜液和PSS陰離子鑄膜液濃度相同，濃度在1-6mg/ml之間；
（2）將經(jīng)過層層自組裝制備的復(fù)合膜干后，浸泡于含交聯(lián)劑溶液的密閉容器中，50±10 ℃交聯(lián)反應(yīng)20-24h。
3.如權(quán)利要求2所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜，其特征在于，步驟（1）中， HTCC陽離子鑄膜液中采用的HTCC的取代度為88.65%。
4.如權(quán)利要求2所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜，其特征在于，步驟（1）中， 所述的HTCC陽離子鑄膜液和PSS陰離子鑄膜液中還包括支撐鹽NaCl，其在鑄膜液中的濃度 均為0.1mol/L。
5.如權(quán)利要求2所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜，其特征在于，步驟（1）中， PES超濾膜的截留分子量為10000。
6.如權(quán)利要求2所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜，其特征在于，步驟（2）中， 交聯(lián)劑溶液為含2-2.2wt%ECH和1-1.9wt%NaOH的乙醇溶液。
7.一種層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
（1）將PES超濾膜作為基膜于HTCC陽離子鑄膜液和PSS陰離子鑄膜液中交替沉積各12- 15min進(jìn)行層層自組裝，交替沉積次數(shù)為1.5-4.5，交替沉積過程中采用去離子水清洗，其 中，交替沉積時(shí)，HTCC陽離子鑄膜液和PSS陰離子鑄膜液濃度相同，濃度在1-6mg/ml之間；
（2）將經(jīng)過層層自組裝制備的復(fù)合膜干后，浸泡于含交聯(lián)劑溶液的密閉容器中，50±10 ℃交聯(lián)反應(yīng)20-24h。
8.如權(quán)利要求7所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜的制備方法，其特征在于， 步驟（1）中，HTCC陽離子鑄膜液中采用的HTCC的取代度為88.65%；PES超濾膜的截留分子量 為10000。
9.如權(quán)利要求7所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜的制備方法，其特征在于， 所述的HTCC陽離子鑄膜液和PSS陰離子鑄膜液中還包括支撐鹽NaCl，其在鑄膜液中的濃度 均為0.1mol/L。
10.如權(quán)利要求7所述的層層自組裝殼聚糖荷正電復(fù)合納濾膜的制備方法，其特征在 于，步驟（2）中，交聯(lián)劑溶液為含2-2.2wt%ECH和1-1.9wt%NaOH的乙醇溶液。
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