[發(fā)明專利]利用薄膜沉積制備納米柱形結(jié)構(gòu)氧化銦的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610158183.9
• 申請(qǐng)日: 2016-03-21
• 公開（公告）號(hào): CN105568221A
• 公開（公告）日: 2016-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王燁
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 王燁
• 主分類號(hào): C23C14/08
• 分類號(hào): C23C14/08;C23C14/34;C23C14/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.利用薄膜沉積制備納米柱形結(jié)構(gòu)氧化銦的方法，其特征在于：包括以下步驟：

用純度為99.99％的銦或氧化銦，制成直徑1英寸、厚度0.25英寸的靶；用單晶或玻璃作 為襯底，襯底超聲波清洗后，在清潔溶劑中清洗20分鐘，再用去離子水沖洗，最后用氮?dú)飧? 燥；

靶和襯底放入到脈沖激光沉積設(shè)備的真空腔內(nèi)；真空腔的初始?jí)毫?×10-6托，濺射 過程中設(shè)置氧氣壓力在5毫托～50托，溫度在室溫～900℃，激光能量為1～10毫焦每平方厘米， 靶到襯底距離為10～80厘米。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用薄膜沉積制備納米柱形結(jié)構(gòu)氧化銦的方法，其特征在于： 濺射前，先進(jìn)行預(yù)濺射，去除靶的表層物質(zhì)確保在正式濺射時(shí)的均勻性；

濺射時(shí)，先濺射催化金屬靶，然后再濺射銦或氧化銦靶；濺射完畢后，在氮?dú)庵羞M(jìn)行冷 卻到室溫取出。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用薄膜沉積制備納米柱形結(jié)構(gòu)氧化銦的方法，其特征在于： 所述的清潔溶劑為丙酮、酒精、異丙醇。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的利用薄膜沉積制備納米柱形結(jié)構(gòu)氧化銦的方法，其特征在于： 所述的催化金屬靶為金、銀、鉑、鈀金屬制成。