[發明專利]溫度可控的高溫輻照靶室

在審

• 申請號: 201610157421.4
• 申請日: 2016-03-18
• 公開（公告）號: CN107204211A
• 公開（公告）日: 2017-09-26
• 發明（設計）人: 夏海鴻;袁大慶;李懷林;燕鵬;孔淑妍;范平;張喬利;溫阿利;馬海亮;左翼;朱升云
• 申請（專利權）人: 國核（北京）科學技術研究院有限公司;中國原子能科學研究院
• 主分類號: G21K5/00
• 分類號: G21K5/00;G01N1/44
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司11021
• 代理人: 文潔

1.一種溫度可控的高溫輻照靶室，包括：

真空腔室，所述真空腔室的腔室壁上設置有至少一個真空束流管道接口，以使離子束穿過真空束流管道接口照射至真空腔室的輻照樣品中；

輻照支撐臺，所述輻照支撐臺安裝在所述真空腔室中；

加熱裝置，所述加熱裝置安裝在所述輻照支撐臺上，所述加熱裝置承載輻照樣品，并與輻照樣品電絕緣地接觸，從而以接觸加熱的方式將輻照樣品加熱至規定的溫度；

溫度測量裝置，所述溫度測量裝置用于測量輻照樣品的溫度；以及

束流測量系統，所述束流測量系統用于測量靶室中央的輻照樣品上的束流強度。

2.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述加熱裝置包括絕緣加熱片，所述加熱裝置通過絕緣加熱片與輻照樣品接觸，從而進行接觸加熱。

3.根據權利要求2所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述加熱片為氮化硼-石墨加熱片。

4.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述加熱裝置的外側設置有至少一個熱輻射屏蔽層，使得輻照樣品與周圍熱隔絕。

5.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述真空腔室包括圓筒形的筒體，在所述筒體上還設有信號及電源輸入輸出接口、抽氣接口。

6.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述加熱裝置的數量是多個，并且都設置在輻照支撐臺上。

7.根據權利要求6所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述輻射支撐臺被構造成轉動和平移，以將被承載的加熱裝置以及輻照樣品中的一個旋轉和推入/退出靶室中央。

8.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述至少一個真空束流管道接口分別與多個真空束流管道相連，所述多個真空束流管道設置成使得所述多個真空束流管道的軸線能夠會聚于真空腔室中央處，從而能夠照射輻照樣品。

9.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述真空束流管道接口的數量為三個，分別與三個真空束流管道相連，所述三個真空束流管道中分別載有重離子束、氫離子束和氦離子束。

10.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述真空腔室的腔室壁上還設置有觀察窗，以便能夠觀察到真空腔室內部的輻照樣品。

11.根據權利要求1所述的高溫輻照靶室，其特征在于，所述溫度測量裝置包括紅外熱像儀，所述紅外熱像儀設置在所述高溫靶室外部，與所述觀察窗相對，所述紅外熱像儀通過所述觀察窗測量輻照樣品的表面溫度分布，并記錄樣品表面多個點的溫度數據，從而實現對束流照射在輻照樣品上的束斑的大小及位置漂移的實時監測。