[發(fā)明專利]一種逆導型MOS柵控晶閘管及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610155996.2 | 申請日: | 2016-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN105679819B | 公開(公告)日: | 2018-12-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳萬軍;李震洋;蔣華平;劉超;古云飛;程武;張波 | 申請(專利權(quán))人: | 電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L29/745 | 分類號: | H01L29/745;H01L21/332;H01L29/06;H01L29/417 |
| 代理公司: | 成都點睛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 葛啟函 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 逆導型 mos 晶閘管 及其 制作方法 | ||
本發(fā)明屬于功率半導體器件領(lǐng)域,具體的說涉及一種逆導型MOS柵控晶閘管及其制作方法。本發(fā)明所提出的新型逆導MOS柵控晶閘管,在電流密度較低時,其可以起到電子勢壘的作用,從而減小了N陽極區(qū)的元胞長度,減小其有效面積,通過大幅提高陽極短路電阻來抑制snapback效應(yīng),而隨著電壓增加,P浮空區(qū)也會向N漂移區(qū)進行空穴發(fā)射,以進行電導調(diào)制,抑制snapback效應(yīng);同時,在反向?qū)〞r,由于額外引入的P浮空區(qū),導通時將經(jīng)過寄生PNPN結(jié)構(gòu),電流到一定量級將出現(xiàn)晶閘管導通,從而使其反向也具有大的電流導通能力。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于功率半導體器件領(lǐng)域,具體的說涉及一種逆導型MOS柵控晶閘管及其制作方法。
背景技術(shù)
隨著人類社會的不斷發(fā)展,能源的消耗量也不斷增加,增加產(chǎn)出的同時,對于電能的利用率有著越來越高的要求。這些要求的實現(xiàn),有賴于電力電子器件的發(fā)展。MOS柵控晶閘管作為一種新型功率器件,也得到了大家的關(guān)注。
MOS柵控晶閘管(MOS Gated Thyristor),簡稱MGT,是一種集合了MOSFET特性與晶閘管特性的復(fù)合型器件。其同時具備MOSFET的輸入阻抗高,門級控制方便以及晶閘管的高阻斷電壓,低導通壓降的優(yōu)點,在功率脈沖領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。典型的MGT器件不具備逆向?qū)芰Γ鴮嶋H電路中如想正常工作,往往需要并連一個反向二極管,以便實現(xiàn)反向續(xù)流能力。以脈沖放電電路為例,若不具備反向?qū)芰Γ瑒t不能實現(xiàn)連續(xù)脈沖過程,其反向?qū)a(chǎn)生電壓停滯,能量難以得到順暢釋放,則易發(fā)生器件損壞。
為解決此問題,人們提出了逆導型MGT(Reverse Conducting MGT),簡稱RC-MGT,如圖1示,通過同時在陽極與陰極引入短路區(qū)域,為其反向?qū)ㄔO(shè)計出了電流通道,特性類似一個二極管,但結(jié)構(gòu)會導致MGT在正向工作時出現(xiàn)兩次snapback現(xiàn)象,第一次是陽極短路導致的由單極工作轉(zhuǎn)向雙極工作的切換,第二次則是由于陰極短路結(jié)構(gòu)導致的器件由三極管工作轉(zhuǎn)向晶閘管工作的切換。這兩次snapback對其正向?qū)ㄔ斐闪瞬涣加绊憽?/p>
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種逆導型MOS柵控晶閘管結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)消除了正向?qū)ǖ牡谝淮蝧napback效應(yīng),削弱了第二次snapback效應(yīng)。
逆導型MOS柵控晶閘管的結(jié)構(gòu)特點主要是陽極區(qū)既有N陽極區(qū)8又有P陽極區(qū)9,同時陰極增加了N阱的開口,使P阱6與陰極1直接短接,這相當于集成了一個反向工作的PiN二極管(由P阱6、N漂移區(qū)7和N陽極區(qū)8所構(gòu)成),其反向即具備了導通能力,使MGT可用于雙向工作。但是傳統(tǒng)的逆導型MGT正向?qū)⒊霈F(xiàn)兩次snapback現(xiàn)象,從而影響器件的開啟。
第一次snapback現(xiàn)象是由于陽極短路結(jié)構(gòu)的存在,當器件正向還處于較低的電流密度時,低電流密度下電子全部經(jīng)過N陽極區(qū)8流向金屬化陽極10,當電壓增加到一定程度時,P陽極區(qū)9才開始導通并向N漂移區(qū)7注入空穴,通過電導調(diào)制效應(yīng)降低N漂移區(qū)7的電阻,此時會出現(xiàn)電流增大而電壓減小的現(xiàn)象。
第二次snapback現(xiàn)象則是由于P阱6和N阱5同時短接到陰極所造成的,則若想進入晶閘管模式電流需從由溝道經(jīng)過N阱5流入陰極切換至經(jīng)過P阱6與N阱5導通流入陰極,也會出現(xiàn)電流增大電壓減小的現(xiàn)象。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





