[發明專利]一種基于零空間投影的近紅外光譜預處理方法有效
| 申請號: | 201610153879.2 | 申請日: | 2016-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN105787518B | 公開(公告)日: | 2019-04-23 |
| 發明(設計)人: | 吳繼忠;徐清泉;夏琛;畢一鳴;吳鍵;廖付;李石頭;夏駿;蘇燕;慕繼瑞;張立立;李永生;何文苗;郝賢偉 | 申請(專利權)人: | 浙江中煙工業有限責任公司 |
| 主分類號: | G06K9/62 | 分類號: | G06K9/62;G01N21/359 |
| 代理公司: | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人: | 劉靜靜 |
| 地址: | 310009 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 空間 投影 紅外 光譜 預處理 方法 | ||
本發明公開了一種基于零空間投影的近紅外光譜預處理方法,包括:步驟1,采集訓練樣本的近紅外光譜以及化學值;步驟2,對近紅外光譜進行排序;步驟3,利用相鄰兩個訓練樣本的化學值,計算擬合權重;步驟4,利用擬合權重生成虛擬近紅外光譜;步驟5,計算差譜矩陣;步驟6,對差譜矩陣進行主成分分析,選取投影向量P;步驟7,將訓練樣本矩陣在P的正交方向進行投影,得到Xp;步驟8,利用偏最小二乘算法建模;步驟9,對待測樣本Xnew,在P的正交方向進行投影,將投影結果代入步驟8所建模型中,得到預測物質的含量。本發明在建模之前,對訓練樣本和后續預測樣本進行零空間的正交投影,消除干擾因素,提高建模結果的魯棒性,降低模型的維護頻率。
技術領域
本發明涉及近紅外光譜技術領域,具體涉及一種基于零空間投影的近紅外光譜預處理方法。
背景技術
近紅外光譜能夠表征待測物中的多種含氫基團信息,具有采樣方便、無損傷、無污染、能夠在線檢測等優點,非常適合用于各種復雜混合物的檢測。近紅外光譜檢測技術目前已廣泛應用于制藥、煙草、石油化工及農業等領域。
近年來,近紅外光譜技術結合多元校正技術,如偏最小二乘算法(Partial LeastSquares,PLS)等進行定量分析越來越普遍,然而,在實際應用中,在模型建立之后,由于時間間隔的原因,測試樣本與訓練樣本的狀態可能不一致。例如,測試溫度,濕度(水分),光譜基線漂移等不一致。當測試樣本中的干擾程度不在訓練樣本包含的范圍之內時,其模型不能很好的應對這些新的干擾,導致預測精度降低。
常用的近紅外光譜預處理技術主要有求導(一階導數譜,二階導數譜),多元散射校正(Multiplicative scatter correction,MSC)(參見文獻H.Martens,S.A.Jensen,andP.Geladi,“Multivariate linearity transformations for near infraredreflectance spectroscopy,”in Proc.Nordic Symp.Applied Statistics,1983,pp.205–234.)和標準正態變量校正(Standard normal variate,SNV)(參見文獻R.J.Barnes,M.S.Dhanoa,and S.J.Lister,“Standard normal variate transformation and de-trending of near-infrared diffuse reflectance spectra,”Applied spectroscopy,vol.43,no.5,pp.772–777,1989.)等。
這些方法都假設光譜干擾項可由一常數項a和一乘性項b組成,通過對兩種干擾項進行消除來達到校正目的。例如,一階導數譜可以消除常數性的基線漂移,二階導數譜在一階導數之上,還可以消除乘性項的基線漂移。MSC和SNV分別通過估計近紅外光譜中的干擾項a和b,從而對其進行校正。
現有的預處理方法的缺點主要是:在校正中沒有考慮實際的干擾因素及其幅度,當測試樣本的干擾項幅度超出訓練樣本范圍時,會導致模型對新樣本的預測精度降低。
現有的預處理方法只針對近紅外光譜,沒有考慮到建模對象的信息,預處理對建模對象的影響是未知的,可能出現由于預處理不當導致的預測效果不理想,甚至預測偏差超出設定閾值的現象。
發明內容
本發明提供了一種基于零空間投影的近紅外光譜預處理方法,在建模之前,對訓練樣本和后續預測樣本進行零空間的正交投影,消除干擾因素,提高建模結果的魯棒性,降低模型的維護頻率。
一種基于零空間投影的近紅外光譜預處理方法,包括:
步驟1,采集訓練樣本的近紅外光譜以及感興趣成分的化學值;
步驟2,依據訓練樣本化學值由小到大的順序,對近紅外光譜進行排序;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江中煙工業有限責任公司,未經浙江中煙工業有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610153879.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





