[發(fā)明專利]液晶顯示元件的制造方法、液晶取向劑、液晶取向膜以及液晶顯示元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610152517.1 | 申請日: | 2012-06-29 |
| 公開(公告)號: | CN105778928B | 公開(公告)日: | 2018-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 永尾隆;宮本佳和;徳久博昭;西川通則 | 申請(專利權(quán))人: | JSR株式會社 |
| 主分類號: | C09K19/56 | 分類號: | C09K19/56;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 日本東京港*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶顯示元件 液晶取向劑 導(dǎo)電膜 基板 涂膜 液晶取向膜 液晶單元 制造 液晶取向性 對向配置 光取向性 聚合性碳 老化特性 連續(xù)驅(qū)動 施加電壓 聚合物 電特性 光照射 碳雙鍵 液晶層 劣化 暴露 | ||
本發(fā)明提供一種液晶取向劑、液晶顯示元件的制造方法、液晶取向膜以及液晶顯示元件,所述液晶取向劑在特定方式的液晶顯示元件中,液晶取向性優(yōu)異,老化特性良好,且可抑制在長時間的連續(xù)驅(qū)動后,特別是長時間地暴露于光中的情況下的電特性的劣化。本發(fā)明于液晶顯示元件的制造方法中經(jīng)過如下步驟:于具有導(dǎo)電膜的基板的導(dǎo)電膜側(cè),涂布含有具有光取向性結(jié)構(gòu)及聚合性碳?碳雙鍵的聚合物的液晶取向劑等來形成涂膜,形成有所述涂膜的基板的所述涂膜經(jīng)由液晶層而形成與不具有導(dǎo)電膜的基板對向配置的構(gòu)成的液晶單元,在對所述導(dǎo)電膜間不施加電壓的狀態(tài)下對所述液晶單元進行光照射。
本申請是申請?zhí)?01280040659.9,申請日2012年06月29日,發(fā)明名稱為“液晶顯示元件的制造方法、液晶取向劑以及液晶顯示元件”發(fā)明專利申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種液晶顯示元件的制造方法、液晶取向劑、液晶取向膜以及液晶顯示元件。
背景技術(shù)
作為液晶顯示元件,除了使用扭轉(zhuǎn)向列(Twisted Nematic,TN)型、超扭轉(zhuǎn)向列(Super Twisted Nematic,STN)型等所代表的具有正介電各向異性的向列型液晶的水平取向模式的液晶顯示元件以外,已知使用具有負(fù)介電各向異性的向列型液晶的垂直(homotropic)取向模式的垂直取向(Vertical Alignment,VA)型液晶顯示元件。進而,還已知共面切換(In-Plane Switching,IPS)型或邊緣場切換(Fringe Field Switching,F(xiàn)FS)型等僅于對向配置的一對基板中的其中一塊上形成電極而在與基板平行的方向上產(chǎn)生電場的橫向電場方式的液晶顯示元件。
已知,橫向電場方式的液晶顯示元件與在兩基板上形成電極而在與基板垂直的方向上產(chǎn)生電場的現(xiàn)有縱向電場方式的液晶顯示元件相比,具有視角廣的特性,另外,可進行高品質(zhì)的顯示。進而已知,橫向電場方式的液晶顯示元件的預(yù)傾角越低,則可獲得越良好的視角特性及越高的對比度。因此,對橫向電場方式的液晶顯示元件期望無電場施加時的初始取向特性中的預(yù)傾角低。
所述液晶顯示元件中,為了使液晶分子相對于基板面而在規(guī)定的方向上取向,在基板表面形成液晶取向膜。作為對液晶取向膜賦予取向性的方法,近年來,代替利用人造絲等布材料將形成于基板表面的有機膜表面在一個方向上擦拭的方法(摩擦法),而提出通過對形成于基板表面的感放射線性有機薄膜照射偏光或者非偏光的放射線來賦予液晶取向能力的光取向法(參照專利文獻1~專利文獻5)。該光取向法不僅在步驟中抑制灰塵或靜電產(chǎn)生,而且可形成均勻的液晶取向膜。進而,也可以通過在照射放射線時使用適當(dāng)?shù)墓庹郑鴥H對有機薄膜上的任意區(qū)域賦予液晶取向能力,或者通過使用多次照射改變了照射方向或者偏光軸方向的放射線的方法或者將所述方法與使用光罩的方法并用,而于一片有機薄膜上形成液晶取向方向不同的多個區(qū)域。除此以外,利用光取向法來形成的液晶取向膜也可以通過使用自垂直方向?qū)灞砻嬲丈淦夥派渚€等方法,而在原理上將預(yù)傾角設(shè)為零,能夠制造極高品質(zhì)的顯示元件。
[現(xiàn)有技術(shù)文獻]
[專利文獻]
專利文獻1:日本專利特開2003-307736號公報
專利文獻2:日本專利特開2004-163646號公報
專利文獻3:日本專利特開2002-250924號公報
專利文獻4:日本專利特開2004-83810號公報
專利文獻5:日本專利特開2010-217868號公報
發(fā)明內(nèi)容
[發(fā)明所解決的課題]
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