[發(fā)明專利]一種樣品前處理系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610150031.4 | 申請日: | 2016-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN105675367B | 公開(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 聶明達;王軍;朱晶晶;儲濤 | 申請(專利權)人: | 鼎泰(湖北)生化科技設備制造有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/28 | 分類號: | G01N1/28;G01N1/44;G01N1/40 |
| 代理公司: | 北京華沛德權律師事務所 11302 | 代理人: | 房德權 |
| 地址: | 435501 湖北省黃岡*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 樣品 處理 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及一種樣品前處理系統(tǒng),包括:主機、溶劑添加模塊及進樣模塊。主機設置有固定樣品試管的加熱模塊;溶劑添加模塊用于添加試劑到樣品試管;進樣模塊用于調(diào)節(jié)溶劑添加模塊位置。進樣模塊包括:兩X軸支撐臂、X軸框架、X軸內(nèi)滑塊、X軸外滑塊、第一驅動組件、兩Y軸滑軌及第二驅動組件;兩個Y軸滑軌設置在主機兩側;兩個X軸支撐臂分別滑動設置在Y軸滑軌上,第二驅動組件能驅動兩個X軸支撐臂沿Y軸滑軌滑移;X軸框架的兩端分別固定在兩個X軸支撐臂上;X軸內(nèi)滑塊滑動設置在X軸框架內(nèi)部的滑槽中。該樣品前處理系統(tǒng)實現(xiàn)了系統(tǒng)內(nèi)部的傳動系統(tǒng)與外界完全隔離,從而避免受到腐蝕,降低故障率,同時保證定容精度準確性。
技術領域
本發(fā)明涉及實驗儀器技術領域,特別涉及一種樣品前處理系統(tǒng)。
背景技術
消解又叫濕法消化,是用酸液或堿液并在加熱條件下破壞樣品中的有機物或還原性物質(zhì)的方法?,F(xiàn)有消解方法通常為三種:電熱板消解、微波消解和石墨消解;其中電熱板消解為全人工完成的消解方法;微波消解需事先將定量的溶劑與樣品同時放入密閉消解罐中,再放入微波消解儀進行消解;石墨消解分為手動和全自動兩種,手動石墨消解原理與電熱板消解相同,全自動石墨消解能跟根據(jù)設定的實驗方法控制加熱溫度、時間、添加溶劑種類及體積等多個變量,從而自動完成消解。
現(xiàn)有全自動石墨消解儀(或樣品前處理系統(tǒng))通常是將加熱系統(tǒng)、溶劑添加系統(tǒng)、升降系統(tǒng)、震蕩系統(tǒng)等模塊整合在一起。由于消解實驗所使用的均為強酸強堿等腐蝕溶劑,會對儀器本身造成腐蝕,而現(xiàn)有解決方案由于傳動系統(tǒng)無法做到全封閉,致使腐蝕性氣體滲入,極易造成儀器內(nèi)部不耐腐蝕元器件損壞。
現(xiàn)有技術中的樣品前處理系統(tǒng)由于傳動系統(tǒng)無法做到全封閉,致使腐蝕性氣體滲入,極易造成儀器內(nèi)部不耐腐蝕元器件損壞。同時,其中Y軸一端固定于X軸相應滑塊之上,另一端為懸空,長時間使用后,由于腐蝕及磨損,會導致Y軸水平方向失衡(即懸空端下沉),由于作用于Y軸之上的溶劑添加系統(tǒng)需要超聲波傳感器根據(jù)垂直相對距離定容添加溶劑之體積,所以上述失衡會導致定容精度下降。
發(fā)明內(nèi)容
本申請?zhí)峁┑囊环N樣品前處理系統(tǒng),解決了或部分解決了現(xiàn)有技術中樣品前處理系統(tǒng)的傳動裝置在機械臂行程范圍內(nèi)無法做到完全密封,系統(tǒng)內(nèi)部仍會受到腐蝕,同時,由于腐蝕及磨損,會導致Y軸水平方向失衡(即懸空端下沉),導致定容精度下降的技術問題,實現(xiàn)了系統(tǒng)內(nèi)部的傳動系統(tǒng)與外界完全隔離,從而避免受到腐蝕,降低故障率,同時保證定容精度準確性的技術效果。
本申請?zhí)峁┝艘环N樣品前處理系統(tǒng),包括:
主機,設置有固定樣品試管的加熱模塊;
溶劑添加模塊,用于添加試劑到所述樣品試管;
進樣模塊,用于調(diào)節(jié)所述溶劑添加模塊位置;所述進樣模塊包括:兩X軸支撐臂、X軸框架、X軸內(nèi)滑塊、X軸外滑塊、第一驅動組件、兩Y軸滑軌及第二驅動組件;
兩個所述Y軸滑軌設置在所述主機兩側;
兩個所述X軸支撐臂分別滑動設置在所述Y軸滑軌上,所述第二驅動組件能驅動兩個所述X軸支撐臂沿所述Y軸滑軌滑移;
X軸框架,兩端分別固定在兩個所述X軸支撐臂上;所述X軸框架內(nèi)設置封閉的滑槽;
X軸內(nèi)滑塊,滑動設置在所述X軸框架內(nèi)部的滑槽中;所述X軸內(nèi)滑塊固定有第一磁性部件;所述第一驅動組件能驅動所述X軸內(nèi)滑塊在所述滑槽內(nèi)滑移;
X軸外滑塊,活動設置在所述X軸框架外部;所述X軸外滑塊固定有第二磁性部件;所述X軸內(nèi)滑塊與所述X軸外滑塊通過磁力連接固定;所述X軸外滑塊與所述溶劑添加模塊固定連接。
作為優(yōu)選,所述X軸框架為鋁合金方管;
所述X軸內(nèi)滑塊設置在所述鋁合金方管的內(nèi)孔中;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于鼎泰(湖北)生化科技設備制造有限公司,未經(jīng)鼎泰(湖北)生化科技設備制造有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610150031.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





